[发明专利]毛发护理组合物

说明书

公开了一种毛发护理组合物，其包含共聚物，具有式RO(CH₂CH₂O)_nSO₃M的乙氧基化烷基硫酸盐阴离子表面活性剂，其中R为具有8至18个碳原子的烷基或烯基，M为包括钠、钾、铵或其混合物的增溶性阳离子；乙氧基化度n为2，和0.01至5重量％的锌基抗头皮屑剂；其中所述共聚物包含：式CH₂＝C(R¹)‑CO‑NH‑(CH₂)_dN⁺R²R³R⁴X^‑表示的阳离子乙烯基单体A，其中R¹为氢原子或甲基，R²至R⁴各自独立地为C_1‑24烷基，优选C_1‑3烷基，X^‑独立地为氟离子、氯离子、溴离子或碘离子阴离子，优选氯离子，且d为1至10的整数；由式CH₂＝C(R⁵)‑CO(O)‑(CH₂)_eN⁺R⁶R⁷R⁸Y^‑表示的阳离子乙烯基单体B，其中R⁵为氢原子或甲基，R⁶至R⁸各自独立地为C_1‑24烷基，优选C_1‑3烷基，Y^‑独立地为氟离子、氯离子、溴离子或碘离子阴离子，优选氯离子，且e为1至10的整数；式CH₂＝C(R⁹)‑CO‑NR¹⁰R¹¹表示的乙烯基单体C，其中R⁹为氢原子或甲基，R¹⁰和R¹¹各自独立地为氢原子或C_1‑4烷基，条件是R¹⁰和R¹¹的碳数之和为1至4；和其中单体A的含量基于所述共聚物的总单体含量为1至44mol％，单体B的含量为1至44mol％，和单体C的含量基于所述共聚物的总单体含量为20至75mol％。

技术领域

本发明涉及毛发护理组合物，尤其是包含共聚物、特定阴离子表面活性剂、和锌基抗头皮屑剂的毛发护理组合物，其产生较小絮凝尺寸和增强的向毛发和/或头皮递送抗头皮屑剂的效率，以确保最大限度的抗微生物功效。

背景技术

毛发护理组合物通常提供清洁或调理益处或两者的组合。这样的组合物典型地包含一种或多种清洁表面活性剂，其通常有助于清洁毛发和头皮，摆脱不期望的污物、颗粒和脂肪物质。调理益处是通过在毛发护理组合物中包含一种或多种调理剂而实现。调理益处是采用沉积到毛发上，导致形成膜的油性物质递送，所述膜使得毛发当潮湿时更容易梳理和当干燥时更可打理。

另外，已经通过毛发护理组合物提供抗头皮屑益处。头皮屑是影响全球许多人的问题。该情况表现为从头皮脱落死皮肤细胞团。这些的颜色是白色，并且提供美学上令人不愉快的外观。对头皮屑作出贡献的因素是马拉色菌属(Malassezia)酵母的某些成员。为了对抗这些，抗头皮屑产品已经包含具有抗真菌活性的某些抗头皮屑剂。这样的产品必须作为毛发清洁洗发剂起作用，同时缓解头皮屑的起因。因此，一直期望改善抗头皮屑剂的递送效率，以最大化这样的抗头皮屑剂的功效。

在毛发护理中使用的典型抗头皮屑剂为金属吡啶硫酮盐，例如吡啶硫酮锌、吡罗克酮乙醇胺盐(羟甲辛吡酮(octopirox))、基于唑类的抗真菌剂(例如，氯咪巴唑)、硫化硒及其组合。在这些中，吡啶硫酮锌是颗粒状材料。

阳离子聚合物通常用于增强调理剂和/或抗头皮屑剂沉积到毛发和/或头皮上。这些聚合物可以是已经用阳离子取代基改性的合成或天然聚合物。