[发明专利]去污剂

权利要求书

1.一种去污剂，其包含改性羟基烷基纤维素，该改性羟基烷基纤维素在羟基烷基纤维素上键合有阳离子性基团及包含碳数4以上且14以下的烃基的疏水基团，阳离子性基团的取代度MS_C为0.01以上，阴离子性基团的取代度MS_A与阳离子性基团的取代度MS_C之比MS_A/MS_C为0，

该阳离子性基团用式(2-1)或式(2-2)表示，该包含碳数4以上且14以下的烃基的疏水基团选自下述式(1-1-1)所表示的疏水基团、式(1-1-2)所表示的疏水基团、式(1-2-1)所表示的疏水基团以及式(1-2-2)所表示的疏水基团，

式(2-1)及式(2-2)中，R²¹～R²³分别独立地表示碳数1以上且3以下的烃基，X^1a-表示阴离子，t表示0以上且3以下的整数，*表示与从羟基烷基纤维素的羟基中去除氢原子所得的基团键合的位置，

式(1-1-1)～式(1-2-2)中，R¹¹表示碳数2～4的亚烷基，R¹表示碳数4以上且14以下的烃基，*表示与从羟基烷基纤维素的羟基中去除氢原子所得的基团键合的位置，n1表示-R¹¹O-的加成摩尔数，n1为0以上且30以下的整数。

2.根据权利要求1所述的去污剂，其中，改性羟基烷基纤维素中的包含碳数4以上且14以下的烃基的疏水基团的取代度为0.0001以上且1以下。

3.根据权利要求1所述的去污剂，其中，改性羟基烷基纤维素中的包含碳数4以上且14以下的烃基的疏水基团的取代度为0.01以上且0.06以下。

4.根据权利要求1所述的去污剂，其中，改性羟基烷基纤维素中的包含碳数4以上且14以下的烃基的疏水基团的取代度为0.01以上且0.04以下。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的去污剂，其中，改性羟基烷基纤维素中的阳离子性基团的取代度为0.01以上且1以下。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的去污剂，其中，改性羟基烷基纤维素中的阳离子性基团的取代度为0.02以上且0.15以下。

7.根据权利要求1～4中任一项所述的去污剂，其中，羟基烷基纤维素的重均分子量为1,000以上且3,000,000以下。

8.根据权利要求1～4中任一项所述的去污剂，其中，羟基烷基纤维素的重均分子量为130,000以上1,200,000以下。

9.根据权利要求1～4中任一项所述的去污剂，其中，改性羟基烷基纤维素的疏水基团的取代度MS_R与阳离子性基团的取代度MS_C之比MS_R/MS_C为0.001以上且10以下。

10.根据权利要求1～4中任一项所述的去污剂，其中，改性羟基烷基纤维素的疏水基团的取代度MS_R与阳离子性基团的取代度MS_C之比MS_R/MS_C为0.05以上且2以下。

11.根据权利要求1～4中任一项所述的去污剂，其中，疏水基团所含有的烃基的碳数为6以上且14以下。

12.根据权利要求1～4中任一项所述的去污剂，其中，疏水基团所含有的烃基的碳数为10以上且14以下。

13.一种去污组合物，其含有权利要求1～12中任一项所述的去污剂。

14.根据权利要求13所述的去污组合物，其含有水。