[发明专利]用于衬底加工系统的平坦化膜及方法

权利要求书

1.一种加工用于衬底载体的弹性膜的方法，所述方法包括：

提供弹性膜；和

使所述弹性膜的表面平坦化以形成平坦化的弹性膜。

2.根据权利要求1所述的方法，其中平坦化包括：

提供膜调节工具；和

将所述膜调节工具应用于所述弹性膜。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的方法，其中所述膜表面使用研磨材料来平坦化。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述研磨材料是沙子。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中平坦化还包括将一种或多种化学物质引入所述弹性膜的表面。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述一种或多种化学物质包括化学浆料混合物。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中平坦化包括控制板与所述膜之间相对于彼此的相对旋转速度。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述旋转速度为每分钟约10至500转。

9.根据权利要求1-6中任一项所述的方法，其中所述平坦化是在将所述膜连接到包括支撑板和保持元件的膜组合件的情况下进行的。

10.一种平坦化衬底的方法，包括：

提供所述衬底；

提供CMP系统，其包括用权利要求1-9中任一项所述的方法形成的平坦化的膜；和

平坦化所述衬底的表面。

11.一种用于支撑衬底的装置，包括：

包含平坦化表面的膜；

支撑板，其配置成支撑所述膜；和

保持元件，其配置成将所述膜保持在所述支撑板上。

12.根据权利要求11所述的装置，还包括在所述支撑板和所述膜之间的空腔。

13.根据权利要求12所述的装置，还包括环，所述环位于所述支撑板和所述膜之间并且相对于所述空腔形成外周。

14.根据权利要求13所述的装置，其中所述环包括平坦化的表面。

15.一种衬底载体，其包括权利要求11-14中任一项所述的装置。

16.一种用于化学机械平坦化的膜，包括：

弹性膜体，其包括面对衬底的表面和面对载体的表面，其中所述面对衬底的表面被平坦化。

17.根据权利要求16所述的膜，其中在平坦化的面对衬底的表面与所述面对载体的表面之间的厚度在大约0.005至0.100英寸的范围内。

18.用于平坦化根据权利要求16或17中任一项所述的膜的系统，其包括膜调节工具。

19.根据权利要求18所述的系统，包括配置成在约0.1至10psi范围内的压力下平坦化所述膜的控制器。

20.根据权利要求18或20中任一项所述的系统，其中所述平坦化的面对衬底的表面的表面粗糙度在所述弹性膜体的表面上基本均匀。