[发明专利]等离子体处理装置在审
申请号: | 201880077281.7 | 申请日: | 2018-11-30 |
公开(公告)号: | CN111418270A | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 安东靖典 | 申请(专利权)人: | 日新电机株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;C23C16/509;H01L21/3065;H01L21/31 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马爽;臧建明 |
地址: | 日本京都府京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 | ||
1.一种等离子体处理装置,在真空容器内产生等离子体,利用所述等离子体对基板进行处理,所述等离子体处理装置包括:
天线导体,被流入高频电流,用以产生等离子体;以及
可变电容器,与所述天线导体电连接,且
所述天线导体在内部具有冷却液所流动的流路,
所述可变电容器的介电质包括在所述天线导体内流动的冷却液。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其中
所述可变电容器包括:
第一固定电极,与所述天线导体电连接;
第二固定电极,和与所述天线导体不同的天线导体电连接,或接地;以及
活动电极,与所述第一固定电极之间形成第一电容器,并且与所述第二固定电极之间形成第二电容器。
3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置,其中
所述活动电极围绕着规定的旋转轴旋转,
所述第一固定电极及所述第二固定电极围绕着所述旋转轴,设置在互不相同的位置。
4.根据权利要求3所述的等离子体处理装置,其中
所述第一固定电极及所述第二固定电极设置在关于所述旋转轴而对称的位置上,并且形成彼此相同形状,
所述活动电极包括与所述第一固定电极相向的第一活动金属板、以及与所述第二固定电极相向的第二活动金属板,
所述第一活动金属板及所述第二活动金属板设置在关于所述旋转轴而对称的位置上,并且形成彼此相同形状。
5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置,其中
所述第一固定电极及所述第二固定电极分别具有以彼此相向的方式而设置的多个固定金属板,
所述第一活动金属板对应于构成所述第一固定电极的多个固定金属板而设置有多个,
所述第二活动金属板对应于构成所述第二固定电极的多个固定金属板而设置有多个。
6.根据权利要求5所述的等离子体处理装置,其中
所述第一活动金属板及所述第二活动金属板在俯视时,呈随着自所述旋转轴向径向外侧行进而展开的扇形形状,
所述固定金属板在俯视时,形成随着朝向所述旋转轴而宽度缩小的形状,所述固定金属板的缩小的端边是沿所述旋转轴的径向而形成,所述旋转轴侧的前端边呈圆弧状。
7.根据权利要求2至6中任一项所述的等离子体处理装置,其中
所述可变电容器包括收容所述第一固定电极、所述第二固定电极及所述活动电极的具有绝缘性的收容容器,
所述收容容器包括导入所述冷却液的导入端口、以及导出所述冷却液的导出端口,
所述导入端口及所述导出端口设置在相互相向的位置上。
8.根据权利要求7所述的等离子体处理装置,其以如下的方式而构成:所述第一固定电极及所述第二固定电极与所述活动电极的相向方向和所述导入端口及所述导出端口的相向方向正交。
9.根据权利要求7或8所述的等离子体处理装置,其中
所述第一固定电极自所述导入端口或所述导出端口中的其中一者插入至收容容器的内部而设置,
所述第二固定电极自所述导入端口或所述导出端口中的另一者插入至收容容器的内部而设置。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的等离子体处理装置,其中
所述天线导体贯通所述真空容器而设置,
所述可变电容器与所述天线导体中的延伸至所述真空容器的外部的端部电连接。
11.根据权利要求10所述的等离子体处理装置,其中
多个所述天线导体贯通所述真空容器而设置,
所述可变电容器是将相互邻接的所述天线导体中的延伸至所述真空容器的外部的端部彼此加以电连接,且使相互邻接的所述天线导体的流路连通。
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