[发明专利]用于清洁或清洗产品的包含一级和二级表面活性剂的组合物

权利要求书

1.一种用于清洁或清洗产品的组合物，其包含：

(A)式(I)离子化合物作为一级表面活性剂，

其中

X是阳离子，

Y1与Y2中的一个是阴离子极性基团，且另一个是氢，

基团Z1、Z2和Z3各自彼此独立地是：

-支化或未支化的C_1-10烷基，

或

-具有结构Rⁱ-{A[-C(R¹)(R²)-]_c[-C(R³)(R⁴)-]_d}_e-的基团，其中：

R¹、R²、R³和R⁴彼此独立地是氢或支化或未支化的C_1-4烷基，

Rⁱ是支化或未支化的C_1-10氟烷基，

A是氧、硫和/或-N(H)-，

c是在0至10范围内的整数，

d是在0至10范围内的整数，

e是在1至5范围内的整数，

前提是c与d不同时为0，

且其中基团Z1、Z2或Z3中的至少一个是具有结构Rⁱ-{A[-C(R¹)(R²)-]_c[-C(R³)(R⁴)-]_d}_e-的基团；

和

(B)至少一种含有一个或多个聚烷氧基和/或聚亚烷氧基的非离子化合物作为二级表面活性剂。

2.根据权利要求1所述的组合物，其包含：

(A)式(I)离子化合物作为一级表面活性剂，和

(B)至少一种含有一个或多个聚烷氧基和/或聚亚烷氧基的非离子化合物作为二级表面活性剂，所述至少一种非离子化合物是选自由以下组成的组：

(B1)式(II)化合物

R⁵-[O-R⁶]_l-OR¹⁸ (II)

其中

R⁵是支化或未支化的、优选支化C_6-12氟烷基，或优选含有1或2个双键的支化或未支化的、优选支化C_6-12氟烯基，

R⁶是支化或未支化的C_2-6亚烷基，优选支化或未支化的C_2-4亚烷基，

R¹⁸是氢或支化或未支化的C_1-4烷基，优选甲基，

且

l是在5至30范围内、优选在6至25范围内的整数；

(B2)式(III)化合物，

H₃C-(CH₂)_m-CH₂-[O-R⁷]_n-OR¹⁹ (III)

其中

R⁷是支化或未支化的C_2-6亚烷基，优选支化或未支化的C_2-4亚烷基，

R¹⁹是氢或支化或未支化的C_1-4烷基，优选甲基，

m是在5至30范围内、优选在6至25范围内的整数；

且

n是在5至30范围内、优选在6至25范围内的整数；

(B3)式(IV)化合物，

其中

R¹⁷是支化或未支化的C_2-6亚烷基，优选支化或未支化的C_2-4亚烷基，

且

o是在5至30范围内、优选在6至25范围内的整数，

(B4)式(V)化合物，

其中

R⁸、R¹³和R¹⁴各自彼此独立地是氢或甲基，

R⁹、R¹¹和R¹²各自彼此独立地是支化或未支化的C_2-6亚烷基，优选支化或未支化的C_2-4烷基，

R¹⁰是支化或未支化的C_1-4烷基

且

p、q和r各自彼此独立地是在2至25范围内的整数，

和

(B5)式(VI)化合物，

(H₃C)₃Si-O-R¹⁵-O-Si(CH₃)₃ (VI)

其中

R¹⁵由以下组成：

数目在1至100范围内的式(VII)重复单元：

-[Si(CH₃)₂-O]- (VII)，

和

数目在1至100范围内的式(VIII)重复单元：

-[Si(CH₃)(R¹⁶)-O]- (VIII)，

其中R¹⁶是包含一个或多个乙二醇基团和/或一个或多个丙二醇基团的基团，

且其中这些式(VII)重复单元和这些式(VIII)重复单元如下排列：

-无规排列，或

-在无规交替嵌段中排列，这些无规交替嵌段在每种情况下按每嵌段计包含两个或更多个式(VII)重复单元或式(VIII)重复单元。