[发明专利]射频和对流处理设备和方法

权利要求书

1.一种方法，包括：

定位处于第一温度的负载以与射频(RF)处理系统电耦合；

在第一时间段内，向所述负载施加RF信号以将所述负载的温度从第一温度改变为第二温度；

将处于所述第二温度的负载定位在对流处理系统内；以及

在第二时间段内，使加热的气态介质在所述负载周围循环，以将所述负载的温度从所述第二温度改变为第三温度，或使所述负载经历化学反应，

其中，所述第一时间段和所述第二时间段一起小于或等于所述负载通过对流处理并且在不施加所述RF信号的情况下从所述第一温度改变为所述第三温度或从所述第一温度经历所述化学反应的时间段。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括：

确定是否检测到关于RF处理的端点；以及

如果所述确定是肯定的，则将所述负载定位在所述对流处理系统内。

3.根据权利要2所述的方法，其中，确定是否检测到所述端点包括基于反射功率电平来确定是否检测到所述端点。

4.根据权利要求2所述的方法，其中，确定是否检测到所述端点包括确定是否已经将所述RF信号施加到所述负载达特定时间量。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，使所述加热的气态介质在所述负载周围循环包括使所述负载转变通过与所述负载相关联的固相至液相转变潜伏区。

6.根据权利要求1所述的方法，还包括在使所述加热的气态介质在所述负载周围循环的同时，使蒸汽在所述负载周围循环。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述蒸汽包括不饱和蒸汽、饱和蒸汽、或超饱和蒸汽。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述对流处理系统包括面团发酵系统，并且其中，使所述加热的气态介质在所述负载周围循环包括使所述加热的气态介质循环以发酵所述负载。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二温度高于所述第一温度，并且所述第三温度高于所述第二温度。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一温度为大约7至10摄氏度(℃)，并且所述第二温度为大约15至30℃或所述负载中包含的发酵剂被活化的温度。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，使所述加热的气态介质在所述负载周围循环包括使所述加热的气态介质在所述负载周围循环大约65分钟的持续时间。

12.根据权利要求1所述的方法，其中，将所述RF信号施加到所述负载包括：连续地将所述RF信号施加到所述负载，以将所述加热的气态介质循环到所述负载。

13.根据权利要求1所述的方法，其中，使所述加热的气态介质在所述负载周围循环包括在所述负载处于所述第二温度后的时间延迟之后将所述加热的气态介质循环到所述负载。

14.根据权利要求1所述的方法，其中，所述负载包括食品或面团。

15.根据权利要求1所述的方法，其中，将所述RF信号施加到所述负载包括改变所述负载的能量含量，并且其中所述第一温度和所述第二温度相同。

16.根据权利要求1所述的方法，其中，定位处于所述第一温度的负载包括使所述负载连续地移动通过所述RF处理系统，并且定位处于所述第二温度的所述负载包括使所述负载连续地移动通过所述对流处理系统。