[发明专利]用于实施材料去除操作的组合物及其形成方法

权利要求书

1.一种组合物，包括：

载体，所述载体包括液体；以及

磨料微粒，所述磨料微粒包含在载体中且包括占所述磨料微粒平均至少10重量％的铈，并且其中所述磨料微粒包括至少0.1的铈3+/总铈比率，其中所述磨料微粒包括复合氧化物，所述复合氧化物包括氧化铈和氧化锆，并且所述氧化锆的量占所述复合氧化物的总重量的至少10重量％。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述磨料微粒包括复合氧化物，所述复合氧化物包括除铈和锆之外的至少一种其他元素，其中所述至少一种其他元素包括过渡金属元素。

3.根据权利要求1所述的组合物，其中所述磨料微粒包括复合氧化物，所述复合氧化物包括除铈和锆之外的至少一种其他元素，其中所述至少一种其他元素包括稀土元素。

4.根据权利要求1所述的组合物，其中所述磨料微粒包括至少30重量％的氧化铈。

5.根据权利要求1所述的组合物，其中所述磨料微粒包括多晶材料，所述多晶材料包括具有立方结构的晶粒。

6.根据权利要求1所述的组合物，其中所述磨料微粒包括Ce³⁺和Ce⁴⁺，并且其中所述磨料微粒包括至少0.30的Ce³⁺/Ce⁴⁺比率。

7.一种形成用于磨料浆料的磨料微粒的方法，包括：

将第一前体材料和第二前体材料相结合以形成混合物，其中所述第一前体材料包括铈，并且所述第二前体材料包括锆；以及

在非氧化气氛中处理所述混合物以形成包括至少0.1的铈3+/总铈比率的磨料微粒，其中所述磨料微粒包括复合氧化物，所述复合氧化物包括氧化铈和氧化锆，并且所述氧化锆的量占所述复合氧化物的总重量的至少10重量％。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述第一前体材料包括盐，所述盐包括铈。

9.根据权利要求7所述的方法，进一步包括以氧化铈浸渍所述含锆第二前体材料，所述氧化铈由含铈第一前体材料形成。

10.根据权利要求7所述的方法，其中加热包括煅烧，并且煅烧在至少800℃至不大于1300℃的范围内的煅烧温度下、在还原气氛中实施，所述还原气氛包括惰性气体、氮气或它们的组合。

11.根据权利要求7所述的方法，其中处理包括在具有氧分压或不大于5Pa的气氛中加热。