[发明专利]电子束检查工具和用于定位载物台的方法在审
申请号: | 201880072810.4 | 申请日: | 2018-11-05 |
公开(公告)号: | CN111328425A | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | N·J·M·博世;P·P·亨佩尼尤斯;S·A·J·霍尔;M·K·M·巴格根 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | H01J37/20 | 分类号: | H01J37/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 董莘 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子束 检查 工具 用于 定位 载物台 方法 | ||
本发明涉及一种粒子束设备(1),该粒子束设备(1)包括:粒子束源(210),被配置为生成粒子束(202);电磁线圈(2),被配置为发射磁场以操纵粒子束;载物台(10),被配置为保持衬底(300);定位装置(20),包括铁磁材料(11),该定位装置还包括被配置为相对于粒子束定位载物台的至少一个电机(23,24);以及控制器(30),被配置为向至少一个电机提供控制信号以至少部分补偿作用在定位装置上的由磁场感应的磁力。
本申请要求于2017年11月10日提交的EP申请17201087.8的优先权,其全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本发明涉及一种电子束(electron beam)(电子束(e-beam))检查工具以及一种用于定位载物台的方法。
背景技术
在半导体工艺中,不可避免地生成缺陷。这样的缺陷可能影响器件性能,甚至可能导致故障。器件产量因此可能受到影响,从而导致成本上升。为了控制半导体工艺产量,缺陷监测很重要。用于缺陷监测的一种工具是SEM(扫描电子显微镜),SEM使用一个或多个电子束扫描样品的目标部分。
为了聚焦电子束,提供了一种电子光学系统,该系统包括布置在要检查的晶片上方的电磁线圈。通过改变通过线圈的电流,可以调节电子束的焦点,以便将电子束聚焦到晶片的表面上。该装置可以包括发射磁场以通过电子束的弯曲来控制电子束在衬底上的位置的另外的电磁线圈。
发明内容
本发明的目的是提供一种具有定位装置的增强的定位的粒子束设备。该目的在如本文中描述的装置、方法和计算机程序的实施例中实现。
因此,根据本发明的一个方面,提供了一种粒子束设备,该粒子束设备包括:
粒子束源,被配置为生成粒子束;
电磁线圈,被配置为发射磁场以操纵粒子束;
载物台,被配置为保持衬底;
定位装置,包括铁磁材料,该定位装置还包括被配置为相对于粒子束定位载物台的至少一个电机;以及
控制器,被配置为向至少一个电机提供控制信号以补偿作用在定位装置上的由磁场感应的磁力。
根据本发明的另一方面,提供一种用于定位粒子束设备的载物台的方法,该方法包括以下步骤:
通过控制器提供控制信号以补偿作用在用于定位载物台的定位装置上的由磁场感应的磁力,该磁场是至少部分从粒子束设备的磁透镜发射的,
至少部分地基于控制信号来致动定位装置的至少一个电机。
本发明的另一方面可以由粒子束设备、电子束设备或电子束检查设备来体现。
附图说明
通过以下详细说明并且结合附图,将能够容易理解本发明,其中相同的附图标记表示相同的结构元件,并且在附图中:
图1A和1B是根据本发明的实施例的电子束检查工具的示意图。
图2和3是可以在本发明的实施例中应用的电子光学系统的示意图。
图4示意性地描绘了根据本发明的EBI系统的可能的控制架构。
图5示意性地描绘了根据本发明的电子束检查工具的实施例的侧视图。
图6示意性地描绘了具有电子束检查工具的控制回路的框图。
图7A示意性地描绘了作为载物台的位置的函数的作用在电子束检查工具的载物台上的水平磁阻力。
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