[发明专利]用于接收导电燃料的设备

说明书

一种用于接收导电燃料的设备包括：主体；电流产生机构；和磁产生机构。主体限定用于接收燃料的表面。电流产生机构适用于在所述主体中产生电流，所述电流具有至少平行于所述表面的分量。磁产生机构布置成产生具有至少垂直于所述表面的分量的磁场。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年10月26日提交的欧洲/美国申请17198469.3的优先权，该欧洲/美国申请通过引用全文并入本文。

技术领域

本发明涉及一种用于接收导电燃料的设备。本发明具体涉及一种用于接收导电燃料的设备，所述设备设置有用于对所接收的燃料施力以使其移动的机构。所述设备可以是适合于接收并至少部分地容纳其接收的导电燃料的燃料收集器。所述设备可以构成激光产生等离子体辐射源的部分。

背景技术

光刻设备是一种构造为将所期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备能够例如用于集成电路(IC)的制造中。光刻设备可例如将来自图案形成装置(例如，掩模)的图案投影到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。

光刻设备用于将图案投影到衬底上的辐射波长决定了能够在该衬底上形成的特征的最小尺寸。使用EUV辐射(具有在4-20nm范围内的波长的电磁辐射)的光刻设备可用于在衬底上形成比常规光刻设备(所述常规光刻设备可以例如使用波长为193nm的电磁辐射)更小的特征。

EUV辐射可以使用等离子体来产生。等离子体可以例如通过将激光束引导至辐射源中的燃料处而生成。所产生的等离子体可以发射EUV辐射。这种辐射源被称为激光产生等离子体(LPP)辐射源。在这种LPP辐射源内，燃料的至少一部分可被入射到所述辐射源内的表面上。可能期望限制入射到LPP源内的至少光学元件(诸如例如辐射收集器)的表面上的这种燃料的量。燃料对辐射源中这种光学元件表面的污染可能导致辐射源性能下降，进而可能导致相关联的光刻设备性能劣化。最终，这可能导致光刻设备的大量停机时间，同时清洗或更换辐射源的部件。

本发明的目的是消除或减轻现有技术的至少一个问题。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供了一种用于接收导电燃料的设备，所述设备包括：主体，限定用于接收燃料的表面；电流产生机构，用于在所述主体中产生电流，所述电流具有至少平行于所述表面的分量；和磁产生机构，布置成产生具有至少垂直于所述表面的分量的磁场。

所述设备可以是燃料收集器。所述燃料收集器可以是适合于接收并至少部分地容纳其接收的导电燃料。

导电燃料可以被由主体限定的表面接收。接近表面的主体的至少一部分由导电材料形成，以支持电流。当电流产生机构在主体中产生电流时，电流的至少一部分可以流过沉积在表面上并因此与表面接触的任何导电燃料。当电流流过燃料时，电流将对燃料施加力。

所施加的力由洛伦兹力公式给出。特别地，所述力既垂直于磁场又垂直于电流。

根据本发明的第一方面的设备是有利的，因为它提供了用于接收导电燃料的表面，并且电流产生机构和磁产生机构一起提供了向燃料施加力的机构。这例如能够允许引导燃料远离其所入射的表面的区域或区，并且引导燃料朝向例如该燃料的收集容器或储存器。

根据本发明的第一方面的设备的有益效果是，该设备提供了向入射于其上的燃料施加力的机构，该机构能够防止燃料在表面上积聚。通常，当燃料入射在表面上时，燃料的第一部分可以沉积在表面上，并且燃料的第二部分可以从表面散射或反弹。可能方便的是，例如，将表面布置成使得在使用时燃料以掠入射角入射到表面上。通过这种布置，从入口孔等入射到表面上并且从表面反弹的燃料的所述部分将趋于具有整体上远离入口孔指向的轨迹。但是，如果足够大量的燃料积聚在表面上，则被引导朝向表面的燃料的至少一部分可能会朝向入口孔反弹回来。

本发明的第一方面能够因此通常检索从表面反向散射的燃料的量，即沿着大致反向平行于入射燃料的初始轨迹的方向反弹的燃料的量。