[发明专利]偏光膜及其制造方法在审
申请号: | 201880069704.0 | 申请日: | 2018-10-16 |
公开(公告)号: | CN111279231A | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 幡中伸行;村野耕太 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;B05D1/36;B05D5/06;B05D7/00;B05D7/24;B32B7/02 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;唐峥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏光 及其 制造 方法 | ||
1.偏光膜,其是具有液晶层的偏光膜,
所述液晶层包含液晶化合物,并且具有根据可见度校正偏光度的值而被区分的至少2种区域,
所述至少2种区域的二色性色素的含有率相互不同。
2.如权利要求1所述的偏光膜,其还具有:
基材层,和
被层叠在所述基材层的至少一面侧的取向层,
所述液晶层被层叠在所述取向层上。
3.如权利要求2所述的偏光膜,其中,所述取向层包含光取向性聚合物。
4.如权利要求1~3中任一项所述的偏光膜,其中,所述液晶化合物包含聚合性液晶化合物。
5.如权利要求1~4中任一项所述的偏光膜,其中,所述液晶层具有含有二色性色素的第1区域、和二色性色素的含有率少于所述第1区域的第2区域,
所述第1区域的可见度校正偏光度为90%以上,
所述第2区域的可见度校正偏光度为10%以下。
6.如权利要求1~5中任一项所述的偏光膜,其中,所述液晶层具有含有二色性色素的第1区域、和二色性色素的含有率少于所述第1区域的第2区域,
所述第1区域的可见度校正单体透过率为35%以上,
所述第2区域的可见度校正单体透过率为80%以上。
7.如权利要求5或6所述的偏光膜,其中,所述第2区域的俯视形状为圆形、椭圆形、长圆形或多边形,
所述第2区域为圆形的情况下的直径为5cm以下,
所述第2区域为椭圆形或长圆形的情况下的长径为5cm以下,
所述第2区域为多边形的情况下,以内切所述多边形的方式绘制的假想圆的直径为5cm以下。
8.如权利要求5~7中任一项所述的偏光膜,其中,所述第1区域在X射线衍射测定中显示出布拉格峰。
9.如权利要求1~8中任一项所述的偏光膜,其还具有基材层,
所述基材层具有1/4波长板功能。
10.如权利要求1~9中任一项所述的偏光膜,其中,所述偏光膜的长度为10m以上。
11.圆偏光板,其是将权利要求1~8及10中任一项所述的偏光膜、与具有1/4波长板功能的相位差层层叠而形成的。
12.偏光膜的制造方法,其具有下述工序:
准备工序,准备在基材层的至少一面侧具有包含液晶化合物及二色性色素的偏光层的层叠膜;和
液状物接触工序,通过使所述层叠膜的所述偏光层的一部分区域、与能降低所述偏光层中的二色性色素的含有率的液状物接触,从而降低所述偏光层的一部分区域中的二色性色素的含有率。
13.如权利要求12所述的偏光膜的制造方法,其中,所述液状物接触工序具有下述工序:
保护层层叠工序,在所述准备工序中准备的所述层叠膜的所述偏光层上,层叠具有用于被覆所述偏光层的被覆区域和用于使所述偏光层露出的露出区域的保护层,由此得到带有保护层的层叠膜;
脱色工序,通过使所述带有保护层的层叠膜与能降低所述偏光层中的二色性色素的含有率的液状物接触,从而得到降低了所述偏光层的一部分区域中的二色性色素的含有率的脱色层叠膜;和
剥离工序,将所述保护层从所述脱色层叠膜剥离。
14.如权利要求13所述的偏光膜的制造方法,其中,所述保护层中的所述露出区域的俯视形状为圆形、椭圆形、长圆形或多边形,
所述露出区域为圆形的情况下的直径为5cm以下,
所述露出区域为椭圆形或长圆形的情况下的长径为5cm以下,
所述露出区域为多边形的情况下,以内切所述多边形的方式绘制的假想圆的直径为5cm以下。
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