[发明专利]照明光学系统、曝光装置和物品制造方法在审

专利信息
申请号: 201880069269.1 申请日: 2018-10-12
公开(公告)号: CN111279264A 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 河野道生 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 宋岩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 照明 光学系统 曝光 装置 物品 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种照明光学系统,利用从光源发射的光束照亮包括多个光学调制元件的光学调制单元,所述照明光学系统包括:

第一透镜阵列,包括将从光源发射的光束划分为多个光束的多个透镜单元;

第二透镜阵列,包括从第一透镜阵列中包括的透镜单元出射的点光被会聚在其上的透镜单元;以及

第一光学构件,使被会聚在第二透镜阵列中包括的透镜单元上的点光成像在构成光学调制单元的光学调制元件中的一个光学调制元件上。

2.根据权利要求1所述的照明光学系统,其中,第二透镜阵列由物镜和成像透镜构成,成像透镜位于与物镜相距所述物镜的焦距的位置处。

3.根据权利要求2所述的照明光学系统,还包括第二光学构件,所述第二光学构件布置在第一透镜阵列和第二透镜阵列之间;

其中,第二光学构件的焦距比物镜的焦距长。

4.根据权利要求1或2所述的照明光学系统,还包括第二光学构件,所述第二光学构件布置在第一透镜阵列和第二透镜阵列之间;

其中,第一透镜阵列被布置为使得第一透镜阵列的出射面被定位在第二光学构件的前侧焦平面中,以及

第二透镜阵列被布置为使得第二透镜阵列的入射面被定位在第二光学构件的后侧焦平面中。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的照明光学系统,其中,从第一透镜阵列中包括的所述多个透镜单元出射的所述多个点光被会聚在第二透镜阵列中包括的透镜单元上。

6.根据权利要求5所述的照明光学系统,其中,第一光学构件使被会聚在第二透镜阵列中包括的透镜单元上的所述多个点光成像在构成光学调制单元的光学调制元件中的一个光学调制元件上。

7.一种照明光学系统,利用从光源发射的光束照亮包括多个光学调制元件的光学调制单元,所述照明光学系统包括:

透镜阵列,包括将从光源发射的光束划分为多个光束的多个透镜单元;

遮光构件,由透镜阵列照亮并且包括多个开口;以及

第一光学构件,使穿过遮光构件的开口的点光成像在构成光学调制单元的光学调制元件中的一个光学调制元件上。

8.根据权利要求7所述的照明光学系统,还包括第二光学构件,所述第二光学构件布置在透镜阵列和遮光构件之间,

其中,透镜阵列被布置为使得透镜阵列的出射面被定位在第二光学构件的前侧焦平面中,以及

遮光构件被布置为使得遮光构件的入射面被定位在第二光学构件的后侧焦平面中。

9.根据权利要求7或8所述的照明光学系统,其中,遮光构件由金属制成。

10.一种照明光学系统,利用从光源发射的光束照亮包括多个光学调制元件的光学调制单元,所述照明光学系统包括:

积分器,使从光源发射的光束的光强度分布均匀;

透镜阵列,包括穿过积分器的光束被会聚在其上的透镜单元;以及

光学构件,使被会聚在透镜单元上的光束成像在构成光学调制单元的光学调制元件中的一个光学调制元件上。

11.一种曝光装置,包括根据权利要求1至10中的任一项所述的照明光学系统,所述照明光学系统利用光照亮包括多个光学调制元件的光学调制单元;以及

投影光学系统,将来自光学调制单元的光投影在基板上。

12.根据权利要求11所述的曝光装置,其中,光学调制单元是包括多个二维排列的微镜的微镜器件,每个微镜具有反射面,所述反射面反射来自照明光学系统的光束并且反射面的角度能够被改变。

13.根据权利要求11或12所述的曝光装置,还包括布置在照明光学系统和光学调制单元之间的偏振分束器和相位板。

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