[发明专利]小分子有机染料

权利要求书

1.一种式(A)的化合物：

式中，Z为NR¹⁰；

R¹选自：C1-C6-烷氧基；

R²选自：H，卤素，C1-C12-烷基；

R³选自：H，卤素，NH₂，N(H)(C1-C6-烷基)，N(C1-C6-烷基)₂；

R⁴选自：H，C1-C12-烷基，卤素；

R⁵选自：H，C1-C12-烷基，卤素；

R⁶选自：H，卤素，NH₂，N(H)(C1-C6-烷基)，N(C1-C6-烷基)₂；

R⁷选自：H，卤素，NH₂，N(H)(C1-C6-烷基)，N(C1-C6-烷基)₂；

R⁸选自：H，卤素，C1-C6-烷氧基；

R⁹选自：芳基；可选地，所述芳基被独立地选自下组的一个以上基团取代：卤素原子，C1-C6-烷基；

R¹⁰选自：C1-C12-烷基，H；

A^-为合适的阴离子，其选自：卤素离子，[BF₄]^-；并且，

当R³和R⁶独立地选自NH₂、N(H)(C1-C6-烷基)、N(C1-C6-烷基)₂时，则R⁹为芳基；其中，所述芳基被C1-C6-烷基取代。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中，R⁹选自：苯基，茚基，茚满基，萘基，蒽基和并四苯基，可选地，其各自独立地被一个或两个独立地选自下组的基团取代：卤素原子，C1-C6-烷基。

3.根据权利要求1所述的化合物，其中，R⁸选自F。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物，其中，所述R⁹选自苯基和萘基，可选地，其被一个、两个或三个独立地选自下组的基团取代：F，Cl，C1-C4-烷基。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物，其中，R²、R³、R⁴、R⁵和R⁷各自为H。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物，其中，R³和R⁶独立地选自：H，NH₂，N(H)(C1-C6-烷基)或N(C1-C6-烷基)₂。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物，其中，R¹选自：C1-C4-烷氧基。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的化合物，其中，R⁸选自：H，C1-C4-烷氧基和F。