[发明专利]筒辊与长条基板处理装置以及长条基板处理装置的管理方法

权利要求书

1.一种筒辊，

其将在真空腔室内以卷对卷的方式输送的长条基板卷绕于筒辊的外周面的一部分从而对所述长条基板进行冷却，所述筒辊具备：循环有制冷剂的制冷剂循环部、在周向隔着大致相等的间隔而配设于整周的多个气体导入通路、以及对这些多个气体导入通路中的每一个供给真空腔室外部的气体的旋转接头，

所述多个气体导入通路中的每一个具有沿着筒辊的旋转轴方向隔着大致相等的间隔而向外周面侧开口的多个气体释放孔，所述旋转接头进行控制以对位于卷绕有长条基板的角度范围内的气体导入通路供给气体且不对未位于卷绕有长条基板的角度范围内的气体导入通路供给气体，

所述筒辊的特征在于，

所述旋转接头由旋转环单元和固定环单元构成，与筒辊同轴地设置该旋转环单元和固定环单元，并且该旋转环单元和固定环单元各自形成有与筒辊的中心轴垂直的气体控制用滑动接触面，

所述旋转环单元具有分别与多个所述气体导入通路连通的多个气体供给通路，这些多个气体供给通路中的每一个气体供给通路在旋转环单元的所述气体控制用滑动接触面具有旋转开口部，该旋转开口部在与所述气体供给通路所连通的气体导入通路在筒辊外周面上的角度位置对应的角度位置开口，

所述固定环单元具备气体分配通路，该气体分配通路由在固定环单元的气体控制用滑动接触面沿整个周向设置的环状凹槽构成，并且具有通过嵌入在环状凹槽内的规定区域的圆弧状填料部件来使所述固定环单元的气体控制用滑动接触面封闭的固定封闭部、以及不使所述气体控制用滑动接触面封闭的固定开口部，而且所述气体分配通路与真空腔室外部的气体供给配管连通，并且，所述固定开口部，在旋转环单元的旋转开口部所相对的固定环单元的气体控制用滑动接触面上的区域中，在卷绕有所述长条基板的角度范围内开口，

嵌入在所述环状凹槽内的规定区域的圆弧状填料部件，通过配置于其背面侧的填料安装夹具的活塞部件向旋转环单元的气体控制用滑动接触面侧进行施力来安装，并且，所述活塞部件的活塞轴的行程范围受到限制，从而使活塞轴前端保持在所述环状凹槽的开口面的内侧。

2.一种筒辊，

其将在真空腔室内以卷对卷的方式输送的长条基板卷绕于筒辊的外周面的一部分从而对长条基板进行冷却，所述筒辊具备：循环有制冷剂的制冷剂循环部、在周向隔着大致相等的间隔而配设于整周的多个气体导入通路、以及对这些多个气体导入通路中的每一个供给真空腔室外部的气体的旋转接头，

所述多个气体导入通路中的每一个具有沿着筒辊的旋转轴方向隔着大致相等的间隔而向外周面侧开口的多个气体释放孔，所述旋转接头进行控制以对位于卷绕有长条基板的角度范围内的气体导入通路供给气体且不对未位于卷绕有长条基板的角度范围内的气体导入通路供给气体，

所述筒辊的特征在于，

所述旋转接头由剖面为凸形的旋转环单元以及圆筒状的固定环单元构成，所述旋转环单元由与筒辊同轴地设置的圆筒基部及圆筒凸部构成，所述固定环单元中嵌入有所述旋转环单元的圆筒凸部，所述圆筒凸部与所述固定环单元各自形成有与筒辊的中心轴平行的气体控制用滑动接触面，

所述旋转环单元具有分别与多个所述气体导入通路连通的多个气体供给通路，并且这些多个气体供给通路中的每一个气体供给通路在旋转环单元中的圆筒凸部的所述气体控制用滑动接触面具有旋转开口部，该旋转开口部在与所述气体供给通路所连通的气体导入通路在筒辊外周面上的角度位置对应的角度位置开口，

所述固定环单元具有气体分配通路，该气体分配通路由在固定环单元的圆筒内周面沿整个周向设置的环状凹槽构成，并且具有通过嵌入在环状凹槽内的规定区域的圆弧状填料部件来使所述固定环单元的气体控制用滑动接触面封闭的固定封闭部、以及不使气体控制用滑动接触面封闭的固定开口部，并且所述气体分配通路与真空腔室外部的气体供给配管连通，并且，所述固定开口部，在旋转环单元中的圆筒凸部的旋转开口部所相对的固定环单元的气体控制用滑动接触面上的区域中，在卷绕有所述长条基板的角度范围内开口，

嵌入在所述环状凹槽内的规定区域的圆弧状填料部件，通过配置于其背面侧的填料安装夹具的活塞部件向旋转环单元的气体控制用滑动接触面侧进行施力来安装，并且，所述活塞部件的活塞轴的行程范围受到限制，从而使活塞轴前端保持在所述环状凹槽的开口面的内侧。