[发明专利]记录全息图的曝光设备，记录全息图的方法和控制用于记录全息图的曝光设备的方法

权利要求书

1.一种用于记录全息图的曝光设备(300)，其中，所述曝光设备(300)具有以下特征：

至少一个调制单元(304)，所述至少一个调制单元构造用于通过将代表所述全息图的至少一个全息元件的调制施加到激光束(308，338)上来产生代表参考射束和/或对象射束的调制射束(310)；

至少一个缩小单元(312)，所述至少一个缩小单元构造用于在使用所述调制射束(310)的情况下产生改变的调制射束(318)，其中，相比于所述调制射束(310)，所述改变的调制射束(318)具有更小的射束直径；

至少一个物镜单元(320)，所述至少一个物镜单元构造用于将所述改变的调制射束(318)引导穿过浸没介质到记录材料(302)上，以便通过借助所述改变的调制射束(318)对所述记录材料(302)的曝光来记录所述全息图；

另外的调制单元(342)、另外的缩小单元(346)和另外的物镜单元(350)，其中，所述另外的调制单元(342)构造用于通过将代表所述全息元件的另外的调制施加到另外的激光束(340)上来产生另外的调制射束(344)，其中，所述调制射束(310)代表所述参考射束，而所述另外的调制射束(344)代表所述对象射束，其中，所述另外的缩小单元(346)构造用于使用所述另外的调制射束(344)来产生另外的改变的调制射束(348)，其中，相比于所述另外的调制射束(344)，所述另外的改变的调制射束(348)具有更小的射束直径，其中，所述另外的物镜单元(350)构造用于将所述另外的改变的调制射束(348)引导穿过另外的浸没介质到所述记录材料(302)上，并使所述另外的改变的调制射束与所述改变的调制射束(318)在所述记录材料(302)处发生干涉，以便记录所述全息图。

2.根据权利要求1所述的曝光设备(300)，在所述曝光设备中，所述调制单元(304)构造成通过所述激光束(308，338)的相位的移位来施加所述调制。

3.根据权利要求1或2所述的曝光设备(300)，在所述曝光设备中，所述调制单元(304)实施为LCoS显示器。

4.根据权利要求1或2所述的曝光设备(300)，在所述曝光设备中，所述调制单元(304)具有由尺寸小于4μm的像素组成的像素结构和/或构造成将所述调制射束(310)以大于2.5度的衍射角发射到至所述缩小单元(312)的射束路径中。

5.根据权利要求1或2所述的曝光设备(300)，在所述曝光设备中，所述物镜单元(320)具有大于1.1的数值孔径和/或具有距所述记录材料(302)的大于600μm的工作距离。

6.根据权利要求1或2所述的曝光设备(300)，在所述曝光设备中，所述缩小单元(312)构造用于产生具有在100和200μm之间的射束直径的射束作为所述改变的调制射束(318)。

7.根据权利要求1或2所述的曝光设备(300)，在所述曝光设备中，所述缩小单元(312)具有代表第一开普勒望远镜(504)的至少一个第一成像单元(314，316)和代表第二开普勒望远镜(506)的第二成像单元(500，502)，其中，所述第一成像单元(314，316)和所述第二成像单元(500，502)光学地串联连接。

8.根据权利要求1或2所述的曝光设备(300)，所述曝光设备具有至少一个调整单元(358)，所述至少一个调整单元用于调整所述调制射束(310)和/或所述改变的调制射束(318)，其中，所述调整单元(358)尤其实施为CMOS元件。

9.根据权利要求1或2所述的曝光设备(300)，所述曝光设备具有移动单元(351)，所述移动单元构造用于相对于所述物镜单元(320)地移动所述记录材料(302)，以便使得能够借助所述改变的调制射束(318)对所述记录材料(302)进行顺序的曝光。