[发明专利]用于检查目标指示的成像仪器有效
| 申请号: | 201880067408.7 | 申请日: | 2018-07-11 |
| 公开(公告)号: | CN111480048B | 公开(公告)日: | 2021-11-12 |
| 发明(设计)人: | 帕特里克·罗伯特;赫弗·西克 | 申请(专利权)人: | 赛峰电子与防务公司 |
| 主分类号: | F41G7/22 | 分类号: | F41G7/22;F41G3/14;F41G3/02;F41G3/16;F41G3/32;F41G3/00 |
| 代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 南霆;李有财 |
| 地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 检查 目标 指示 成像 仪器 | ||
1.一种用于检查目标(TG)的指示的成像仪器(10),其包括:
-物镜(1),其设计成通过源自场景(SC)的元素的第一辐射(RN)形成所述场景的图像,第一辐射称作天然辐射,并且设计成使得所形成图像含有源自所述场景中所含目标(TG)的贡献,所述贡献由所述目标反向散射的第二辐射(RP)产生,第二辐射称作指示器辐射;以及
-矩阵阵列图像传感器(2),其包括各自同时对所述天然辐射(RN)和所述指示器辐射(RP)敏感的像素元素,所述图像传感器放置成捕捉由所述物镜(1)形成的图像;
使得所捕捉图像形成所述场景(SC)的表示,其中所述天然辐射(RN)和所述指示器辐射(RP)一起促使通过所述指示器辐射辐照的所述目标(TG)在所成像场景内出现,
所述仪器(10)的特征在于,其另外包括:
-滤波器(3),其覆盖所述图像传感器(2)的限制区域(ZC),限制区域称作确认区域,并且适于向所述确认区域中所含的所述像素元素选择性地透射所述指示器辐射(RP),但排除所述天然辐射(RN)或排除所述天然辐射中在频谱上与所述指示器辐射(RP)分离的一部分,
由此,当所述仪器(10)朝向所述场景(SC)取向以使得所述目标(TG)在所述图像传感器(2)的所述确认区域(ZC)中成像时,所述目标仅通过反向散射的指示器辐射(RP)出现在所捕捉图像中,或主要通过所述反向散射的指示器辐射出现在所述所捕捉图像中。
2.根据权利要求1所述的仪器(10),其设计成使得通过所述图像传感器(2)的像素元素检测到的所述天然辐射(RN)的波长介于3μm与15μm之间,或0.36μm与1.5μm之间,并且使得同样通过所述图像传感器的像素元素检测到的所述指示器辐射(RP)的波长介于1.00μm与1.10μm之间。
3.根据权利要求1所述的仪器(10),其特征在于,覆盖所述图像传感器(2)的确认区域(ZC)的所述滤波器(3)是干涉滤波器。
4.根据权利要求1所述的仪器(10),其特征在于,所述图像传感器(2)上存在所述滤波器(3)的所述确认区域(ZC)位于由所述图像传感器的所述像素元素形成的矩阵阵列的周边边缘或角的附近。
5.根据权利要求1所述的仪器(10),其设计成使得由所述图像传感器(2)捕捉的所述场景(SC)的图像对应于具有介于8mrad与80mrad之间的第一角度尺寸以及介于6mrad与60mrad之间的第二角度尺寸的光学入射场,所述第二角度尺寸垂直于所述第一角度尺寸而测得,
并且所述滤波器(3)具有尺寸以使得其通过所述物镜(1)对应于所述光学入射场的一部分,所述部分具有介于0.3mrad与3mrad之间的第三角度尺寸以及也介于0.3mrad与3mrad之间的第四尺寸,所述第三角度尺寸平行于所述光学入射场的所述第一角度尺寸而测得,所述第四尺寸平行于所述光学入射场的所述第二角度尺寸而测得。
6.根据权利要求1所述的仪器(10),其另外包括:
-瞄准系统,其设计成在所捕捉图像内相对于所述图像传感器(2)限定的位置处将十字准线(M)叠放在所述所捕捉图像上;以及
-指向装置,其设计成使所述仪器(10)旋转设定的指向角度,使得在指向(DP)被发起之前在所述十字准线(M)上成像的所述场景(SC)的元素在指向被执行时会在所述确认区域(ZC)中成像。
7.根据权利要求6所述的仪器(10),其另外包括协调系统(4),所述协调系统设计成相对于所述图像传感器(2)调整所述十字准线(M)的位置,使得在目标(TG)在指向被发起之前在所述十字准线的中心成像的情况下,当指向被执行时,所述目标在所述确认区域(ZC)的中心成像。
8.根据权利要求7所述的仪器(10),其另外包括:
-目标指示系统,其包括激光单元(5),所述激光单元设计成产生指示器辐射束(FRP)并且取向成将所述指示器辐射束发送到所述目标(TG)。
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