[发明专利]用于制造气体分离膜的方法和由此制造的气体分离膜

权利要求书

1.一种用于制备气体分离膜的方法，包括：

通过在多孔基底上涂覆亲水性聚合物溶液来形成多孔层；以及

通过在所述多孔层上涂覆包含由以下化学式1表示的聚合物的用于形成活性层的组合物来形成活性层，

其中基于所述用于形成活性层的组合物，由化学式1表示的所述聚合物以1重量％至5重量％包含在内：

[化学式1]

在化学式1中，

n为重复单元的数目，并且为500至3,000的整数；以及

R1至R5彼此相同或不同，并且各自独立地为氢；烷基；或-(C＝O)R6，以及R6为烷基。

2.根据权利要求1所述的用于制备气体分离膜的方法，其中所述用于形成活性层的组合物还包含硝基甲烷。

3.根据权利要求1所述的用于制备气体分离膜的方法，其中所述用于形成活性层的组合物使用狭缝涂覆来涂覆。

4.根据权利要求1所述的用于制备气体分离膜的方法，其中R1和R3至R5为烷基，以及R2为-(C＝O)R6。

5.根据权利要求1所述的用于制备气体分离膜的方法，其中所述亲水性聚合物为聚砜、聚醚砜、聚碳酸酯、聚环氧乙烷、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚醚醚酮、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚甲基氯或聚偏二氟乙烯。

6.根据权利要求1所述的用于制备气体分离膜的方法，其中由化学式1表示的所述聚合物的重均分子量(Mw)为100,000至700,000。

7.根据权利要求1所述的用于制备气体分离膜的方法，其中由化学式1表示的所述聚合物的数均分子量(Mn)为80,000至400,000。

8.根据权利要求1所述的用于制备气体分离膜的方法，还包括在多孔层的形成之后且在活性层的形成之前，在所述多孔层上制备沟槽层。

9.根据权利要求1所述的用于制备气体分离膜的方法，还包括在活性层的形成之后，在所述活性层上制备保护层。

10.一种气体分离膜，包括：

多孔层；和

形成在所述多孔层上的包含由以下化学式1表示的聚合物的活性层，

其中所述气体分离膜的基于甲烷的二氧化碳选择度为5至30：

[化学式1]

在化学式1中，

n为重复单元的数目，并且为500至3,000的整数；以及

R1至R5彼此相同或不同，并且各自独立地为氢；烷基；或-(C＝O)R6，以及R6为烷基。

11.根据权利要求10所述的气体分离膜，所述气体分离膜的基于甲烷的二氧化碳选择度为10至26.7。