[发明专利]干涉测量台定位装置有效
| 申请号: | 201880065095.1 | 申请日: | 2018-10-01 |
| 公开(公告)号: | CN111183501B | 公开(公告)日: | 2022-11-25 |
| 发明(设计)人: | M·K·M·巴格根;W·O·普里尔;E·A·F·范德帕施 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/20 | 分类号: | H01J37/20 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 郑振 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 干涉 测量 定位 装置 | ||
1.一种用于束检查的装置,包括:
束发生器,其被配置为在衬底上提供束;
载物台,其包括支撑表面,所述载物台被配置为将所述衬底支撑在所述支撑表面上;
定位设备,其被配置为定位所述载物台;
位置测量系统,其包括位置传感器,所述位置传感器被配置为测量所述载物台的平行于第一轴线的高度位置,所述第一轴线垂直于所述支撑表面,所述位置传感器包括具有干涉仪传感器的干涉仪测量系统,
其中所述干涉仪传感器的测量束被配置为沿测量方向照射所述载物台的反射表面,所述测量方向具有平行于所述第一轴线的第一分量和平行于第二轴线的第二分量,所述第二轴线垂直于所述第一轴线;以及
所述位置测量系统还包括:
第二位置传感器,其被配置为测量所述衬底的平行于所述第一轴线的另一高度位置;
控制器,其被配置为提供致动信号;以及
至少一个致动器,其被配置为至少部分地基于所述致动信号来调整所述载物台的所述高度位置,
其中所述装置被配置为以比所述位置传感器的测量速率低的测量速率,使用所述第二位置传感器来测量所述衬底的所述另一高度位置,以及
其中所述控制器包括具有主控制回路和从属控制回路的主从配置,其中在使用中,在所述从属控制回路中,所述位置传感器被用于控制所述衬底的所述另一高度位置,并且其中在使用中,在所述主控制回路中,所述第二位置传感器被用于针对所述从属控制回路提供设定点。
2.根据权利要求1所述的装置,其中所述干涉仪传感器的反射参考表面被配置为由所述干涉仪传感器的参考束照射,所述干涉仪传感器的反射参考表面被布置在所述束发生器上、或被布置在支撑所述束发生器的框架上。
3.根据权利要求1或2所述的装置,
其中所述反射表面被布置为垂直于所述干涉仪传感器的所述测量方向。
4.根据权利要求1或2所述的装置,
其中所述测量方向与所述第二轴线之间的角度介于2度与20度之间。
5.根据权利要求2所述的装置,
其中所述参考束的参考束方向平行于所述测量束、或平行于所述第二轴线。
6.根据权利要求1或2所述的装置,
其中所述载物台的侧表面作为所述载物台的没有支撑所述衬底的表面,被配置为形成所述载物台的所述反射表面,或者其中安装在所述载物台的所述侧表面上的反射表面元件被配置为形成所述载物台的所述反射表面。
7.根据权利要求1或2所述的装置,
其中所述位置测量系统和/或所述控制器包括所述载物台的所述反射表面的校正图,所述校正图被配置为校正所述载物台的所述反射表面的不同位置处的反射行为的差异。
8.根据权利要求2所述的装置,
其中所述干涉仪测量系统包括第二干涉仪传感器,其中所述第二干涉仪传感器的第二测量束沿第二测量方向被引导向所述载物台的第二反射表面,所述第二测量方向具有平行于所述第一轴线的第三分量和平行于第三轴线的第四分量,所述第三轴线垂直于所述第一轴线。
9.根据权利要求8所述的装置,
其中所述位置传感器被配置为测量所述载物台的与所述第二轴线平行的位置。
10.根据权利要求8所述的装置,
其中所述位置传感器被配置为测量所述载物台在3个自由度或6个自由度上的位置。
11.根据权利要求8所述的装置,
其中所述反射表面和所述第二反射表面相对于所述第一轴线被布置在所述载物台的相对侧处,以及
其中所述测量方向的所述第一分量和所述第二测量方向的所述第三分量具有相同的方向,所述测量方向的所述第二分量和所述第二测量方向的所述第四分量具有相反的方向。
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