[发明专利]控制设备、光刻装置、测量装置、处理装置、平坦化装置以及物品制造方法有效

专利信息
申请号: 201880064741.2 申请日: 2018-09-12
公开(公告)号: CN111183397B 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 浅野俊哉;中野浩太 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G05B11/36;G05B13/02;H01L21/027;H01L21/68
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 马景辉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 控制 设备 光刻 装置 测量 处理 平坦 化装 以及 物品 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻装置,其特征在于,包括:

反馈控制设备;以及

形成单元,所述形成单元被配置为使用由所述反馈控制设备控制的物体来形成图案,

其中,所述反馈控制设备被配置为将关于受控对象的测量值与期望值之间的控制偏差的信息作为输入并输出用于所述受控对象的操纵变量,所述反馈控制设备包括:

偏差计算单元,所述偏差计算单元将测量值与期望值作为输入,计算测量值与期望值之间的控制偏差,并输出关于控制偏差的信息;

第一控制单元,所述第一控制单元将关于控制偏差的信息作为输入,并输出用于所述受控对象的操纵变量;

第二控制单元,所述第二控制单元将关于控制偏差的信息作为输入,并且包括学习控制单元,在该学习控制单元中通过机器学习来确定用于输出用于所述受控对象的操纵变量的参数;以及

加法器,所述加法器将从所述第一控制单元输出的第一操纵变量和从所述第二控制单元输出的第二操纵变量相加,其中:

来自所述加法器的操纵变量被输出到所述受控对象,以及

所述第二控制单元包括滤波器,该滤波器用于停止所述控制偏差的某个频带,

来自所述滤波器的信号被输入到所述学习控制单元,并且

来自所述滤波器的信号不被输入到所述第一控制单元。

2.根据权利要求1所述的光刻装置,其中所述第二操纵变量被限制在预定的范围内。

3.根据权利要求2所述的光刻装置,其中所述学习控制单元包括在能够从所述第二控制单元输出的第二操纵变量的范围被限制的状态下被机器学习的参数。

4.根据权利要求2所述的光刻装置,其中所述第二操纵变量的范围小于所述第一操纵变量的范围。

5.根据权利要求1所述的光刻装置,其中从所述学习控制单元输出的输出值的范围被限制。

6.根据权利要求1所述的光刻装置,包括:

用于接通/断开所述第二操纵变量向所述受控对象的输入的开关。

7.根据权利要求6所述的光刻装置,包括:

确定单元,所述确定单元确定所述控制偏差是否在容限内,

其中,在确定所述控制偏差不在所述容限内的情况下,断开所述开关。

8.根据权利要求6所述的光刻装置,包括显示器,该显示器显示用于选择所述开关的通/断的选择单元。

9.根据权利要求6所述的光刻装置,其中所述机器学习在所述开关被断开之后执行。

10.根据权利要求1所述的光刻装置,包括:

驱动单元,所述驱动单元对所述受控对象应用改变;以及

测量单元,所述测量单元测量所述受控对象,

其中所述反馈控制设备将与所述受控对象的由所述测量单元测量的测量值与期望值之间的控制偏差相关的信息作为输入,并输出用于所述驱动单元的操纵变量。

11.根据权利要求1所述的光刻装置,还包括:

计算单元,所述计算单元计算所述控制偏差。

12.根据权利要求1所述的光刻装置,包括:

具有不同阻带的多个滤波器,

其中所述多个滤波器被切换和使用。

13.根据权利要求12所述的光刻装置,包括:

作为所述多个滤波器的第一滤波器和第二滤波器,以及

所述参数包括

第一参数,所述第一参数是在使用所述第一滤波器的情况下通过使用第一频带中的偏差作为输入的机器学习来确定的,以及

第二参数,所述第二参数是在使用所述第二滤波器的情况下通过使用与所述第一频带不同的第二频带中的偏差作为输入的机器学习来确定的。

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