[发明专利]具有疏水性和耐久性的经处理的基材在审

专利信息
申请号: 201880064239.1 申请日: 2018-08-24
公开(公告)号: CN111183172A 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: J·王;J·M·小摩尔;B·J·张;E·阿尔蒂诺克;P·L·大凯金斯 申请(专利权)人: 旭硝子汽车美国研发股份有限公司;NBD纳米技术股份有限公司
主分类号: C08G77/22 分类号: C08G77/22;B32B7/12;B32B27/26;C07F7/21;C08L83/04;C09D183/08
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张钦
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 疏水 耐久性 处理 基材
【权利要求书】:

1.一种经处理的基材,其包括:

基材;

设置在所述基材上的粘合促进剂层,所述粘合促进剂层由粘合促进剂组合物形成,所述粘合促进剂组合物包含多面体的低聚倍半硅氧烷或线型有机硅烷聚合物;和

设置在所述粘合促进剂层上的面漆层,使得所述粘合促进剂层位于所述面漆层和所述基材之间,所述面漆层由面漆组合物形成,所述面漆组合物包含至少一种不含醚氧原子的氟化有机硅化合物和至少一种含有醚氧原子的氟化有机硅化合物。

2.根据权利要求1所述的经处理的基材,其中所述至少一种不含醚氧原子的氟化有机硅化合物选自下式(1a)表示的化合物、其部分水解的缩合物和下式(1b)表示的化合物:

Rf1-Y-Si(R11)g(X1)3-g (1a)

其中Rf1为C1-20全氟烷基,其在碳-碳原子之间不含醚氧原子且其可具有环结构;Y为不含氟原子的C1-6二价有机基团,R11各自独立地为氢原子或不含氟原子的C1-6烃基,X1各自独立地为卤原子、烷氧基或异氰酸酯基,g为0-2的整数,R7为氢原子或不含氟原子的C1-3烃基,和b为1-100的整数。

3.根据权利要求1或2所述的经处理的基材,其中所述至少一种含有醚氧原子的氟化有机硅化合物选自下式(2a)表示的化合物、其部分水解的缩合物和下式(2b)表示的化合物:

Rf2-W-Z-Si(R12)g(X2)3-g (2a)

其中Rf2为C1-20全氟烷基,其可具有插入在碳-碳原子之间的醚氧原子且其可具有环结构,

-W-Z-为-O-(CF2CF2O)a-CF2-CONHC3H6-或-O-(CF2CF2O)a-CF2-CH2OCONHC3H6-,其中a为1-200的整数,

R12各自独立地为氢原子或不含氟原子的C1-8烃基,

X2各自独立地为卤素原子、烷氧基或异氰酸酯基,

g为0-2的整数,

R8为氢原子或不含氟原子的C1-3烃基,和

c为1-100的整数。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的经处理的基材,其中所述面漆组合物还包含式SiX34的化合物,其中X3为卤素原子或可水解基团。

5.根据权利要求4所述的经处理的基材,其中X3为氯。

6.根据权利要求4所述的经处理的基材,其中X3为烷氧基或异氰酸酯基。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的经处理的基材,其中所述至少一种含有醚氧原子的氟化有机硅化合物的质量百分比相对于所述至少一种含有醚氧原子的氟化有机硅化合物和所述至少一种不含醚氧原子的氟化有机硅化合物的总质量为10-90质量%,其中所述至少一种含有醚氧原子的氟化有机硅化合物和所述至少一种不含醚氧原子的氟化有机硅化合物的量为水解缩合反应之前的量。

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