[发明专利]用于冷却电构件的冷却设备和用于制造冷却设备的方法

权利要求书

1.一种用于冷却电构件(4)、尤其激光二极管的冷却设备(1)，所述冷却设备包括：

-基本体(2)，所述基本体具有外侧(20)和至少一个集成的冷却通道(5)，尤其微冷却通道，

-在所述基本体(2)的所述外侧(20)处的接合面(21)，用于将所述电构件(4)接合到所述基本体(2)上，和

-第一稳定化层(11)，

其中所述第一稳定化层(11)和所述接合面(21)沿着初级方向(P)至少部分上下相叠地设置，和

-其中所述第一稳定化层(11)相对于所述外侧(20)沿着平行于所述初级方向(P)伸展的方向朝向所述基本体(2)的内部错开间距(A)。

2.根据权利要求1所述的冷却设备(1)，

其中设有第二稳定化层(12)，其中所述第一稳定化层(11)、所述第二稳定化层(12)和所述接合面(21)沿着初级方向(P)至少部分上下相叠地设置，并且其中所述第一稳定化层(11)与所述第二稳定化层(12)相比更靠近所述接合面(21)设置。

3.根据权利要求1或2所述的冷却设备(1)，

其中在所述接合面(21)和所述第一稳定化层(11)之间的间距(A)具有在100μm和1000μm之间，优选在150μm和750μm之间并且尤其优选地在200μm和500μm之间的值。

4.根据上述权利要求中任一项所述的冷却设备(1)，

其中所述第一稳定化层(11)包括金刚石。

5.根据上述权利要求中任一项所述的冷却设备(1)，

其中所述第一稳定化层包括碳化硅。

6.根据上述权利要求中任一项所述的冷却设备(1)，

其中所述第一稳定化层(11)和所述接合层(21)沿初级方向(P)观察彼此叠合地设置。

7.根据上述权利要求中任一项所述的冷却设备(1)，

其中所述第一稳定化层(11)沿着垂直于所述初级方向(P)伸展的次级方向(S)在第一长度(L1)之上延伸，其中所述第二稳定化层(12)沿着所述次级方向(S)在第二长度(L2)之上延伸，并且所述接合面(21)沿着所述次级方向(S)在第三长度(L3)之上延伸，其中所述第一长度(L1)和/或所述第二长度(L2)相对于所述第三长度(L3)的比值具有在0.5和6.0之间的值，优选具有在0.5和3.0之间的值，优选具有在0.9和2.0之间的值，并且尤其优选具有在0.95和1.5之间的值。

8.根据上述权利要求中任一项所述的冷却设备(1)，

其中所述第一长度(L1)和/或所述第二长度(L2)具有在5mm和25mm、优选在6mm和18mm之间的和尤其优选在7mm和15mm之间的值。

9.根据上述权利要求中任一项所述的冷却设备，

其中所述第一稳定化层(11)和/或所述第二稳定化层(12)不在所述冷却设备(1)的共同的纵向延伸之上沿着所述次级方向(S)延伸。

10.根据上述权利要求中任一项所述的冷却设备(1)，

其中在所述接合面(21)的沿着所述次级方向(S)测量的第三长度(L3)相对于所述第一稳定化层(11)的所述第一长度(L1)的比值具有在0.33和0.99之间、优选在0.5和0.98之间并且尤其优选在0.66和0.95之间的值。

11.根据上述权利要求中任一项所述的冷却设备(1)，

其中沿初级方向(P)观察所述冷却通道(5)的子区域(T)在所述第一稳定化层(11)和所述第二稳定化层(12)伸展。