[发明专利]微波处理装置、微波处理方法以及化学反应方法

权利要求书

1.一种微波处理装置，具有：

空腔共振器，具有形成微波的驻波的空腔；以及

电介质部，占据所述空腔的容积的5分之1以上地配置于该空腔，

在所述空腔共振器内配置能够相对于该空腔共振器的内部出入的被处理对象物，

利用所述驻波对所述被处理对象物进行处理。

2.根据权利要求1所述的微波处理装置，其中，

在将所述被处理对象物的介电损耗率设为ε_m”、将所述电介质部的介电损耗率设为ε_d”时，ε_m”ε_d”。

3.根据权利要求1或者2所述的微波处理装置，其中，

所述被处理对象物配置于所述空腔共振器内的电场强度或磁场强度为极大的位置。

4.根据权利要求1～3中的任意一项所述的微波处理装置，其中，

所述被处理对象物在配置于所述空腔共振器内的管内配置，利用微波对填充于该管或者连续地导入到该管的该被处理对象物进行处理。

5.根据权利要求1～4中的任意一项所述的微波处理装置，其中，

在将所述空腔共振器的共振频率设为f、将真空中的光速设为c时，在空气中传播的微波的波长λ表示成λ＝c/f，所述空腔的最大尺寸L1满足

6.根据权利要求1～5中的任意一项所述的微波处理装置，其中，

在将在空气中传播的微波的波长设为λ、将作为所述空腔的内容积V的立方根而计算出的该空腔共振器的等效容积球的直径设为L2时，所述空腔共振器满足

7.根据权利要求1～6中的任意一项所述的微波处理装置，其中，

所述空腔共振器为形成TM_mn0模式的驻波的所述空腔的直径为D且高度为H的圆筒型共振器，在将该空腔共振器的共振频率设为f、将真空中的光速设为c时，在空气中传播的微波的波长λ用λ＝c/f表示，满足其中，m设为0以上的整数，n设为1以上的整数。

8.根据权利要求1～6中的任意一项所述的微波处理装置，其中，

所述空腔共振器为形成TM_mn0模式的驻波的所述空腔的宽度为W1、进深为W2且高度为H的矩形型共振器，在将该空腔共振器的共振频率设为f、将真空中的光速设为c时，在空气中传播的微波的波长λ用λ＝c/f表示，满足且满足其中，m设为0以上的整数，n设为1以上的整数。

9.根据权利要求1～6中的任意一项所述的微波处理装置，其中，

所述空腔共振器为形成TM_mn0模式的驻波的所述空腔的剖面面积为S且高度为H的多边形型共振器，在将该空腔共振器的共振频率设为f、将真空中的光速设为c时，在空气中传播的微波的波长λ用λ＝c/f表示，所述剖面面积S的平方根的值L3满足其中，m设为0以上的整数，n设为1以上的整数。

10.根据权利要求1～6中的任意一项所述的微波处理装置，其中，

所述空腔共振器为形成TE_l0n模式的驻波的矩形型共振器，在将所述空腔内的微波行进方向的长度设为Lm、将电场变化的方向的长度设为Le、将该空腔共振器的共振频率设为f、将真空中的光速设为c时，在空气中传播的微波的波长λ用λ＝c/f表示，满足且满足其中，l、n设为1以上的整数。

11.根据权利要求1～10中的任意一项所述的微波处理装置，其中，

所述电介质部的相对介电常数为1.5以上，介电损耗率为0.1以下。

12.根据权利要求1～11中的任意一项所述的微波处理装置，其中，

所述被处理对象物为气体、液体或者固体。