[发明专利]作为MGLUR7调节剂的新的杂环化合物

权利要求书

1.式(I)的化合物:

其中:

G选自N或CR⁷，

E选自N或CR⁸，

条件是G或E中至少一个是N

Y是CR⁹，

R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸和R⁹相同或不同各自独立地选自氢、卤素、-CN、-CF₃、-C(＝O)R¹⁰、-C(＝O)OR¹⁰、-C(＝O)NR¹⁰R¹¹、-OR¹⁰、-OC(＝O)R¹⁰、-OC(＝O)NR¹⁰R¹¹、-SR¹⁰、-S(O)R¹⁰、-S(O)₂R¹⁰、-S(O)₂NR¹⁰R¹¹、-NR¹⁰R¹¹、-NR¹⁰C(＝O)R¹¹、-NR¹⁰C(＝O)OR¹¹、-NR¹⁰S(O)₂R¹¹、任选被取代的基团，所述任选被取代的基团选自：-(C₁-C₆)烷基、-(C₁-C₆)卤代烷基、-(C₃-C₇)环烷基、-(C₁-C₆)亚烷基-(C₃-C₇)环烷基或-(C₁-C₆)氰基烷基，

其中任意两个基团R¹和R²、R³和R⁴、及R⁵和R⁶可一起形成氧代(＝O)，

其中R¹⁰和R¹¹是相同或不同的，其各自独立地选自氢、任选被取代的基团，所述任选被取代的基团选自：-(C₁-C₆)烷基、-(C₁-C₆)卤代烷基、-(C₁-C₆)氰基烷基、-(C₃-C₇)环烷基或-(C₁-C₆)亚烷基-(C₃-C₇)环烷基，

其中，任选地，选自R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁹、R¹⁰和R¹¹的任意两个基团可一起形成任选被取代的3至10-元非芳族碳环或杂环或5至10-元芳族杂环，

n是选自0或1的整数，

Ar¹是任选地被取代的芳基或杂芳基，

Ar²是任选地被取代的芳基或杂芳基，

及其N-氧化物形式、其药学上可接受的盐和溶剂化物，或它们的光学异构体、外消旋体、非对映异构体、对映异构体或互变异构体。