[发明专利]防反射薄膜及其制造方法、以及带防反射层的偏光板有效
| 申请号： | 201880062537.7 | 申请日： | 2018-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN111183373B | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 宫本幸大;山崎由佳;金谷实;梨木智刚 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;B32B7/023;B32B9/00;C23C14/08;C23C14/10;G02B1/14;G02F1/1335;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反射 薄膜 及其 制造 方法 以及 反射层 偏光 | ||
【权利要求书】：
1.一种防反射薄膜，其在透明薄膜基材的一个主表面具备包含折射率不同的多个薄膜的防反射层，
所述防反射层包含与所述透明薄膜基材接触的底漆层，
所述底漆层的氩的含量为0.01～0.5原子％。
2.根据权利要求1所述的防反射薄膜，其中，所述底漆层为硅氧化物层。
3.根据权利要求2所述的防反射薄膜，其中，所述防反射层在所述底漆层上交替地具备高折射率层及低折射率层。
4.根据权利要求3所述的防反射薄膜，其中，所述高折射率层为铌氧化物层，所述低折射率层为硅氧化物层，所述底漆层的硅氧化物的氧量比所述低折射率层的硅氧化物的氧量少。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的防反射薄膜，其透湿度为1g/m2·24h以下。
6.根据权利要求1～4中任一项所述的防反射薄膜，其中，所述透明薄膜基材在与所述底漆层接触的面具备硬涂层。
7.一种带防反射层的偏光板，其在偏光件的一面具备权利要求1～6中任一项所述的防反射薄膜。
8.一种防反射薄膜的制造方法，其是制造权利要求1～6中任一项所述的防反射薄膜的方法，
所述底漆层通过溅射法进行成膜。
9.根据权利要求8所述的防反射薄膜的制造方法，其中，构成所述防反射层的所有薄膜均通过溅射法进行成膜。
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