[发明专利]具有受控的粗糙度和微结构的涂层有效

专利信息
申请号: 201880062318.9 申请日: 2018-07-30
公开(公告)号: CN111132945B 公开(公告)日: 2022-10-21
发明(设计)人: H·B·德克尔;S·D·哈特;K·W·科齐三世;C·A·保尔森 申请(专利权)人: 康宁股份有限公司
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34;C03C17/42;G02B1/11
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 徐鑫;项丹
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 受控 粗糙 微结构 涂层
【权利要求书】:

1.一种经过涂覆的制品,其包括:

包含主要表面的玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷基材;和

布置在基材的主要表面上的功能涂层,所述功能涂层包括:

布置在主要表面上的第一部分;

布置在所述第一部分上的一个或多个间断层;以及

布置在所述一个或多个间断层上方的第二部分,

其中,所述一个或多个间断层构造成使得所述第一部分和/或所述第二部分的晶体生长行为发生改变,所述一个或多个间断层所包含的微结构不同于所述第一部分的微结构,以及在450nm至650nm的可见光波长范围上,所述功能涂层具有大于10%的平均光学透射率,所述第一部分和所述第二部分包含相同材料,以及在功能涂层距离间断层100nm内的所述第二部分所包含的平均微结构晶体尺寸小于距离间断层100nm内的所述第一部分的平均微结构晶体尺寸。

2.如权利要求1所述的经过涂覆的制品,其中,所述一个或多个间断层所包含的微结构不同于所述第一和第二部分这两者。

3.如权利要求1所述的经过涂覆的制品,其中,所述一个或多个间断层具有无定形微结构。

4.如权利要求1所述的经过涂覆的制品,其中,涂层的所述第一和第二部分分别包括多层,以及涂层的平均光学透射率大于50%。

5.如权利要求1-4中任一项所述的经过涂覆的制品,其中,所述一个或多个间断层中的每一个包括50nm或更小的厚度。

6.如权利要求5所述的制品,其中,所述一个或多个间断层包括10nm或更小的厚度。

7.如权利要求1-4中任一项所述的制品,其中,所述一个或多个间断层是多孔的。

8.如权利要求1-4中任一项所述的制品,其中,所述第一和第二部分中的至少一个包括0.1μm至2μm的厚度。

9.如权利要求1-4中任一项所述的制品,其中,所述一个或多个间断层包含三层,以及所述制品还包括位于所述一个或多个间断层之间的多个隔开层。

10.如权利要求1-4中任一项所述的制品,其还包括:

布置在功能涂层的所述第二部分上的易清洁(ETC)涂层。

11.如权利要求1-4中任一项所述的制品,其中,涂层包括5nm Rq或更小的表面粗糙度。

12.一种经过涂覆的制品,其包括:

基材,所述基材包括主要表面且包含玻璃、玻璃陶瓷或陶瓷组成;和

布置在基材的主要表面上的功能涂层以形成经涂覆的表面,所述功能涂层包括:

布置在主要表面上的第一部分;

布置在所述第一部分的上方的多个间断层,所述多个间断层包含的微结构不同于所述第一部分的微结构;以及

布置在所述多个间断层上方的第二部分,

其中,所述多个间断层构造成使得所述第一部分和/或所述第二部分的晶体生长行为发生改变,所述多个间断层包括在450nm至650nm的可见光波长范围上的大于85%的光学透射率,并且所述多个间断层中的每一个具有100nm或更小的厚度,所述第一部分和所述第二部分包含相同材料,以及在功能涂层距离间断层100nm内的所述第二部分所包含的平均微结构晶体尺寸小于距离间断层100nm内的所述第一部分的平均微结构晶体尺寸。

13.如权利要求12所述的经过涂覆的制品,其中,所述多个间断层所包含的相对于所述第一和第二部分中的任一个的折射率差异是0.1或更大,以及其中,间断层中的每一个的厚度是5nm或更大。

14.如权利要求12所述的经过涂覆的制品,其中,涂层包括5nm Rq或更小的表面粗糙度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于康宁股份有限公司,未经康宁股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880062318.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top