[发明专利]用于降低畏光反应的频率和/或严重性或用于调节昼夜周期的方法、系统和设备

权利要求书

1.一种用于通过控制相对于400nm至700nm的可见光谱范围的对于视网膜中的黑视素神经节细胞的光暴露来降低包括偏头痛的畏光反应的频率和/或严重性的设备，所述设备包括：

光学滤光片，被构造为具有：

在约454nm与约506nm之间的波长上平均的、小于量Tmelan的光透射比例；

在小于约454nm的可见光谱内的波长上平均的、值大于量Tvis1的光透射比例；以及

在大于约506nm的可见光谱内的波长上平均的、值大于量Tvis2的光透射比例；

其中，包括所述光透射比例的比率被定义为品质因数(FOM)，所述品质因数由下式确定：

其中，所述光学滤光片的品质因数至少为1.6。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述光学滤光片还包括：

基板；

第一层，设置在所述基板上，第一层包括高折射率材料；以及

第二层，邻近第一层设置，第二层包括低折射率材料。

3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述滤光片包括介电多层、嵌入的纳米粒子涂层、谐振导模滤光片或皱褶滤光片。

4.根据权利要求1所述的设备，其中，所述滤光片包括滤色片或染色剂中的一个或多个。

5.根据权利要求1所述的设备，其中，所述光学滤光片的品质因数至少为1.8。

6.根据权利要求1所述的设备，其中，所述光学滤光片的品质因数至少为2.0。

7.根据权利要求1所述的设备，其中，所述光学滤光片的品质因数至少为2.5。

8.根据权利要求1所述的设备，其中，所述光学滤光片的品质因数至少为3.0。

9.一种用于通过控制相对于400nm至700nm的可见光谱范围的对于视网膜中的细胞的光暴露来降低包括偏头痛的畏光反应的频率和/或严重性的设备，所述设备包括：

光学滤光片，被构造为具有：

在约565nm与约615nm之间的波长上平均的、小于量T_rec,590的光透射比例；

在小于约565nm的可见光谱内的波长上平均的、值大于量Tvis1的光透射比例；以及

在大于约615nm的可见光谱内的波长上平均的、值大于量Tvis2的光透射比例；

其中，包括所述光透射比例的比率被定义为品质因数(FOM)，所述品质因数由下式确定：

其中，所述光学滤光片的品质因数至少为1.3。

10.根据权利要求9所述的设备，其中，所述光学滤光片被构造为透射在565nm与615nm之间的波长上平均的光的约45％以及在小于565nm和大于615nm的可见光谱内的波长上平均的光的约60％。

11.根据权利要求9所述的设备，其中，所述光学滤光片的品质因数大于约1.5、大于约1.8、大于约2.75、大于约3或大于约3.3。

12.根据权利要求9所述的设备，其中，所述光学滤光片包括介电多层、嵌入的纳米粒子涂层、滤色片、染色剂、谐振导模滤光片、皱褶滤光片或它们的任意组合。