[发明专利]用于触摸屏面板的衬底、具有该衬底的触摸屏面板及其制造方法

权利要求书

1.一种用于制造用于触摸屏面板的衬底的方法，所述方法包括：

制备具有感测区域和位于所述感测区域外周上的边框区域的片状透明衬底；

在所述透明衬底的所述感测区域中形成透明电极层；

在所述透明衬底的所述边框区域中形成薄膜沉积层；以及

在所述薄膜沉积层的上表面上形成光致抗蚀剂层。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述透明衬底是COP或PET材料，并且所述透明电极层是ITO材料。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，形成所述薄膜沉积层包括：

在所述边框区域的上表面上形成粘合层；

在所述粘合层的上表面上形成金属层；以及

在所述金属层的上表面上形成保护层。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，形成所述光致抗蚀剂层通过静电纺丝工艺而形成光致抗蚀剂层。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，形成所述光致抗蚀剂层进一步在所述透明电极层的上表面上形成光致抗蚀剂层。

6.一种用于触摸屏面板的衬底，包括：

片状透明衬底，其具有感测区域和位于所述感测区域外周上的边框区域；

透明电极层，其形成在所述感测区域的上表面上；

薄膜沉积层，其形成在所述边框区域的上表面上；以及

光致抗蚀剂层，其形成在所述薄膜沉积层的上表面上。

7.根据权利要求6所述的用于触摸屏面板的衬底，其中，所述透明电极层包括：

粘合层，其形成在所述边框区域的上表面上；

金属层，其形成在所述粘合层的上表面上；以及

保护层，其形成在所述金属层的上表面上。

8.根据权利要求7所述的用于触摸屏面板的衬底，其中，所述粘合层和所述金属层是镍-铜(Ni-Cu)和钛(Ti)中的一种，并且所述金属层是铜(Cu)。

9.根据权利要求6所述的用于触摸屏面板的衬底，其中，所述光致抗蚀剂层进一步形成在所述透明电极层的上表面上。

10.一种用于制造触摸屏面板的方法，所述方法包括：

制备基础衬底，所述基础衬底包括形成在感测区域中的透明电极层和形成在边框区域中的薄膜沉积层；以及

通过对所述透明电极层和所述薄膜沉积层进行蚀刻来形成包括信号线图案和触摸感测电路图案的电路图案。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，制备所述基础衬底制备包括形成在所述薄膜沉积层的上表面上的光致抗蚀剂层的基础衬底。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，形成所述电路图案包括：

通过对所述光致抗蚀剂层进行曝光和显影而形成第一掩模；

通过使用所述第一掩模作为阻挡对所述薄膜沉积层进行蚀刻而形成所述信号线图案；

在所述基础衬底的所述感测区域中形成第二掩模；以及

通过使用所述第一掩模作为阻挡对所述透明电极层进行蚀刻而形成所述触摸感测电路图案。

13.根据权利要求10所述的方法，其中，制备所述基础衬底制备包括形成在所述透明电极层和所述薄膜沉积层的上表面上的光致抗蚀剂层的基础衬底。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，形成所述电路图案包括：

通过对所述光致抗蚀剂层进行曝光和显影而形成掩模；

通过使用所述掩模作为阻挡对所述透明电极层进行蚀刻而在所述感测区域中形成所述触摸感测电路图案；以及

通过使用所述掩模作为阻挡对所述薄膜沉积层进行蚀刻而在所述边框区域中形成所述信号线图案。