[发明专利]用于钨化学机械抛光的组合物

权利要求书

1.化学机械抛光组合物，包含：

基于水的液体载剂；

分散于该液体载剂中的研磨剂颗粒，

含铁的促进剂；及

具有氨基酸单体单元的阳离子型聚合物。

2.权利要求1的组合物，其中该研磨剂颗粒包含胶体氧化硅研磨剂。

3.权利要求2的组合物，其中该胶体氧化硅研磨剂具有至少10mV的永久性正电荷。

4.权利要求1的组合物，其中该含铁的促进剂包含能够溶解的含铁的催化剂。

5.权利要求4的组合物，进一步包含与该能够溶解的含铁的催化剂结合的稳定剂，该稳定剂选自：磷酸、邻苯二甲酸、柠檬酸、己二酸、乙二酸、丙二酸、天冬氨酸、丁二酸、戊二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、顺丁烯二酸、戊烯二酸、粘康酸、乙二胺四乙酸、丙二胺四乙酸及其混合物。

6.权利要求1的组合物，进一步包含过氧化氢氧化剂。

7.权利要求1的组合物，具有在约1.0至约5.0的范围内的pH。

8.权利要求1的组合物，其中该阳离子型聚合物包含根据下式的化合物：

其中L₁、L₂、X₁及X₂中的至少一者包括带正电的基团且R₁、R₂及R₃为H、OH或烷基。

9.权利要求8的组合物，其中该阳离子型聚合物具有大于约5的酸离解常数(pK_a)。

10.权利要求8的组合物，其中该阳离子型聚合物具有6至11的酸离解常数(pK_a)。

11.权利要求8的组合物，其中该阳离子型聚合物包含聚赖氨酸、聚精氨酸及聚组氨酸中的至少一者。

12.权利要求11的组合物，其中该阳离子型聚合物包含聚赖氨酸。

13.权利要求12的组合物，其中该阳离子型聚合物包含ε-聚-L-赖氨酸。

14.权利要求8的组合物，包含按重量计约1至约200ppm的该阳离子型聚合物。

15.权利要求8的组合物，包含按重量计约5至约50ppm的该阳离子型聚合物。

16.权利要求8的组合物，其中该阳离子型聚合物具有在约1至约100kDa的范围内的分子量。

17.化学机械抛光组合物，包含：

基于水的液体载剂；

分散于该液体载剂中的胶体氧化硅研磨剂颗粒，

能够溶解的含铁的催化剂；

与该能够溶解的含铁的催化剂结合的稳定剂；

具有氨基酸单体单元的阳离子型聚合物，该阳离子型聚合物包含聚赖氨酸、聚精氨酸及聚组氨酸中的至少一者；及

其中该组合物具有在约1至约5范围内的pH。

18.权利要求17的组合物，其中该阳离子型聚合物为聚赖氨酸。