[发明专利]粘接剂层、近红外线吸收膜、夹层结构体、叠层体、粘接剂组合物及其制造方法

权利要求书

1.一种粘接剂层，其含有复合钨氧化物微粒、分散剂、具有氨基的金属偶联剂、粘接剂、以及交联剂，所述粘接剂层中，

所述复合钨氧化物微粒具有下述晶格常数：a轴为以上以下，c轴为以上以下，

所述复合钨氧化物微粒的平均粒径为100nm以下。

2.根据权利要求1所述的粘接剂层，其中，

所述复合钨氧化物微粒具有下述晶格常数：a轴为以上以下，c轴为以上以下。

3.根据权利要求1或2所述的粘接剂层，其中，

所述复合钨氧化物微粒为通式MxWyOz(式中，M元素为选自H、He、碱金属、碱土金属、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、T1、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I、Yb中的1种以上的元素，W为钨，O为氧，0.001≤x/y≤1，2.0≤z/y≤3.0)表示的复合钨氧化物的微粒。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的粘接剂层，其中，

所述复合钨氧化物微粒包含具有六方晶晶体结构的复合钨氧化物。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的粘接剂层，其中，

所述复合钨氧化物微粒的平均粒径为10nm以上100nm以下。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的粘接剂层，其中，

所述复合钨氧化物微粒的微晶粒径为10nm以上100nm以下。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的粘接剂层，其中，

所述复合钨氧化物微粒的表面的至少一部分，由含有选自Si、Ti、Zr、Al中的至少1种以上的元素的表面包覆膜所包覆。

8.根据权利要求7所述的粘接剂层，其中，

所述表面包覆膜含有氧原子。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的粘接剂层，其中，

相对于所述复合钨氧化物微粒100质量份，以1质量份以上100质量份以下的比例而含有所述具有氨基的金属偶联剂。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的粘接剂层，其中，

所述具有氨基的金属偶联剂为具有氨基的硅烷偶联剂。

11.根据权利要求1～9中任一项所述的粘接剂层，其中，

所述具有氨基的金属偶联剂为具有氨基的钛酸酯类偶联剂。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的粘接剂层，其中，

所述粘接剂包含丙烯酸类聚合物。

13.根据权利要求1～12中任一项所述的粘接剂层，其中，

所述分散剂为高分子分散剂。

14.根据权利要求1～13中任一项所述的粘接剂层，其还含有选自紫外线吸收剂、受阻胺类光稳定剂(HALS)、抗氧化剂中的一种以上。

15.一种近红外线吸收膜，其具有权利要求1～14中任一项所述的粘接剂层。

16.一种近红外线吸收膜，其中，

透明膜的一表面侧配置有权利要求1～14中任一项所述的粘接剂层，

所述透明膜的另一表面侧配置有硬涂层。

17.一种夹层结构体，其具有：

多片透明膜、和

权利要求1～14中任一项所述的粘接剂层，其中，

所述多片所述透明膜之间配置有所述粘接剂层。