[发明专利]含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质

说明书

R¹‑R²‑CH₂‑R³‑CH₂‑R⁴‑R⁵所示的含氟醚化合物。(R³为全氟聚醚链；R¹和R⁵各自独立地为可以具有取代基的烷基、具有至少一个双键或三键的有机基、氢原子中的任一者；‑R²‑CH₂‑R³由式(2)表示，R³‑CH₂‑R⁴‑由式(3)表示。)‑[A]‑[B]‑O‑CH₂‑R³(2)R³‑CH₂‑O‑[C]‑[D]‑(3)([A]由式(4)表示，[B]由式(5)表示，[C]由式(6)表示，[D]由式(7)表示，式中的a和b为0～2的整数，c为2～5的整数，d和f为0～2的整数，e为2～5的整数。式中的b和d中的至少一者为1以上。)

技术领域

本发明涉及适合于磁记录介质的润滑剂用途的含氟醚化合物、包含该含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂以及磁记录介质。

本申请基于2017年9月13日在日本申请的特愿2017-176030号来主张优先权，将其内容援用到本文中。

背景技术

为了使磁记录再生装置的记录密度提高，适于高记录密度的磁记录介质的开发进展。

以往，作为磁记录介质，有在基板上形成记录层，在记录层上形成了碳等保护层的磁记录介质。保护层保护记录于记录层的信息，并且提高磁头的滑动性。然而，仅在记录层上设置保护层，不能充分地获得磁记录介质的耐久性。因此，一般而言，在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。

作为在形成磁记录介质的润滑层时使用的润滑剂，提出了例如，含有在具有包含CF₂的重复结构的氟系聚合物的末端具有羟基等极性基的化合物的润滑剂(例如，参照专利文献1～3)。

例如，在专利文献1中公开了在两个末端部分配置了具有多个羟基、且该羟基间的最短距离相距3原子以上的取代基的化合物。此外，在专利文献2中公开了在一个末端具有芳香族、在另一个末端具有羟基的氟聚醚化合物。此外，在专利文献3中公开了具有全氟聚醚主链，在分子的末端具有芳香族基和羟基，芳香族基和羟基分别与不同的碳原子结合的化合物。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4632144号公报

专利文献2：日本专利第5909837号公报

专利文献3：日本专利第5465454号公报

发明内容

发明所要解决的课题

在磁记录再生装置中，要求使磁头的上浮量更加小。因此，要求使磁记录介质中的润滑层的厚度更薄。

然而，一般而言如果使润滑层的厚度薄，则有润滑层的被覆性降低，磁记录介质的耐磨损性降低的倾向。

本发明是鉴于上述情况而提出的，其课题是提供可以形成即使厚度薄也具有优异的耐磨损性的润滑层，可以适合用作磁记录介质用润滑剂的材料的含氟醚化合物。

此外，本发明的课题是提供包含本发明的含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂。

此外，本发明的课题是提供具有包含本发明的含氟醚化合物的润滑层的具有优异的可靠性和耐久性的磁记录介质。

用于解决课题的方法

本发明人为了解决上述课题而反复进行了深入研究。