[发明专利]压力场测绘设备以及使用所述设备的清洁玻璃基板的方法

说明书

提供压力场测绘设备以及使用所述设备的清洁玻璃基板的方法。压力场测绘设备包括支撑基板；布置在支撑基板上的多个压力传感器，每个压力传感器被配置为响应于施加到所述压力传感器的压力而输出信号；防水袋，围绕支撑基板；及分析器，配置为从多个压力传感器的每一个接收信号，并基于所接收的信号实时输出支撑基板上的压力图。通过使用压力场测绘设备以及使用所述设备的清洁玻璃基板的方法，可在清洁处理中没有工人之间的偏差的情况下进行客观和定量的测试，因此大大减少例如颗粒缺陷的产品缺陷。

技术领域

本申请案依照专利法主张2017年7月21日申请的韩国第10-2017-0092736号申请案的优先权，依赖所述专利案内容，且将其内容全文以引用方式并入本文中。

一个或多个实施例涉及压力场测绘设备以及使用所述设备的清洁玻璃基板的方法，更明确来说涉及可在清洁处理中没有工人之间的偏差的情况下进行客观和定量的测试的压力场测绘设备以及使用所述设备的清洁玻璃基板的方法。

背景技术

随着消费者对高表面质量玻璃基板的需求增加以及越来越常使用具有较大面积的玻璃基板，在制造玻璃基板的处理过程中出现颗粒缺陷的可能性已经增加了。

关于玻璃基板制造处理，用于客观和定量测试或评估清洁处理的设备很少，因此难以减少颗粒缺陷的发生。再者，需要减少由于清洁处理中工人之间的偏差造成的基板质量不均匀性。

发明内容

一个或多个实施例包括可在清洁处理中没有工人之间的偏差的情况下进行客观和定量测试的压力场测绘设备。

一个或多个实施例包括大大减少例如颗粒缺陷的产品缺陷的清洁玻璃基板的方法。

额外方面将部分地在下面的描述中阐述，并且部分地将从描述中显而易见，或者可通过实践所呈现的实施例来学习。

根据一个或多个实施例，压力场测绘设备包括：支撑基板；布置在支撑基板上的多个压力传感器，多个压力传感器的每一个被配置为响应于施加到其上的压力而输出信号；防水袋，围绕支撑基板；及分析器，配置为从多个压力传感器的每一个接收信号，并基于所接收的信号实时输出支撑基板上的压力图。

多个压力传感器的每一个可包括上导体层与下导体层，下导体层与上导体层分离并设置在上导体层下面，上导体层可包括第一导体部与第二导体部，第一导体部包括第一电极而第二导体部包括第二电极，且上导体层可通过施加到压力传感器对应一个的压力而变形且可接触下导体层。

压力场测绘设备可进一步包括多个引线，连接至多个压力传感器的每一个的第一电极与第二电极，多个引线延伸到设置在支撑基板一侧上的连接器，其中分析器可配置为通过连接器和信号电缆接收信号。

第一导体部与第二导体部可与施加到压力传感器对应一个的压力成比例地变形，且第一导体部和第二导体部中的每一个与下导体层接触的接触区域可相应地增加。

第一导体部可包括多个平行布置的第一指状件，且第二导体部可包括多个平行布置的第二指状件，其中多个第一指状件与多个第二指状件可相对于彼此交替地布置。

多个压力传感器的每一个可进一步包括第一电极与第二电极下方的间隔件，其中间隔件可分隔上导体层与下导体层。

支撑基板可为柔性基板。

多个压力传感器可以格子形式布置在支撑基板上。