[发明专利]排放气体副产物测量系统在审

专利信息
申请号: 201880056746.0 申请日: 2018-08-06
公开(公告)号: CN111033232A 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 克里斯蒂安·赛拉迪;吕克·阿尔巴雷德;亚辛·卡布兹;爱德华·J·麦金纳尼;萨珊·罗汉姆 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: G01N21/3504 分类号: G01N21/3504;G01N21/05;G01N33/00;G02B5/08
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 樊英如;邱晓敏
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 排放 气体 副产物 测量 系统
【权利要求书】:

1.一种排放气体副产物测量系统,其能附接至来自处理室的排放泵的排放输出口,其包括:

气体腔室,其构造成用于接收来自所述排放输出口的排放物,所述气体腔室还包含光学腔,其中所述排放物通过所述光学腔;

至少一个光学元件;

光源;

光检测器,其中所述至少一个光学元件、所述光源以及所述光检测器被定位成使得来自所述光源的光束在到达所述光检测器之前被导向至所述至少一个光学元件多次;

至少一个加热器,其用于向所述至少一个光学元件提供热量,使得所述至少一个光学元件被所述至少一个加热器加热;

吹扫气体源;

多个吹扫气体喷嘴,其与所述光学腔流体连接;

高流量管线,其流体连接在所述吹扫气体源和所述多个吹扫气体喷嘴之间;

低流量管线,其流体连接在所述吹扫气体源和所述多个吹扫气体喷嘴之间,其中所述低流量管线的至少部分与所述高流量管线平行;以及

至少一个流量控制器,其用于管理包含高流量及低流量的多个流率。

2.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统,其中所述至少一个光学元件包含第一光学元件,其中所述光束被引导至所述第一光学元件上的多个照射区域,且其中所述多个吹扫气体喷嘴选择性地将吹扫气体引导至所述第一光学元件上的所述多个照射区域。

3.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统,其中该至少一个光学元件包含镜。

4.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统,其中所述吹扫气体源提供包含N2、Ar或空气中的至少一者的气体。

5.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统,其中所述至少一个光学元件包含第一光学元件和第二光学元件,其中所述第一光学元件与所述第二光学元件彼此间隔开,且其中所述光学腔位于所述第一光学元件和所述第二光学元件之间。

6.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统,其中所述高流量为脉冲式的,而该低流量为恒定的。

7.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统,其中所述光源为IR光源,所述光检测器为IR检测器,且所述至少一个光学元件为IR光学元件。

8.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统,其中所述至少一个光学元件包含第一光学元件,其中所述光束被引导至围绕所述第一光学元件的圆周设置的多个照射区域,且其中所述多个吹扫气体喷嘴选择性地将吹扫气体引导至所述第一光学元件上的所述多个照射区域。

9.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统,其中所述至少一个光学元件包含第一光学元件,其中所述光束被引导至所述第一光学元件上的多个照射区域,且其中所述多个吹扫气体喷嘴选择性地将来自所述吹扫气体源的吹扫气体引导至所述第一光学元件上的所述多个照射区域,其中所述吹扫气体选择性地清洁所述照射区域。

10.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统,其中所述至少一个光学元件包含第一光学元件,其中所述光束被引导至所述第一光学元件上的所述多个照射区域,且其中所述多个吹扫气体喷嘴选择性地将来自所述吹扫气体源的吹扫气体引导至所述第一光学元件上的所述多个照射区域,其中所述吹扫气体选择性地清洁所述照射区域并减少所述照射区域上的沉积。

11.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统,其中所述高流量为脉冲式的,且所述低流量为脉冲式的。

12.根据权利要求1所述的排放气体副产物测量系统,其还包含测量控制器,所述测量控制器被连接以接收来自所述光检测器的输入,其包含:

至少一个处理器;以及

计算机可读介质,其包含:

用于接收来自所述光检测器的输入的计算机可读码;以及

用于根据来自所述光检测器的所述输入来确定气体副产物浓度的计算机可读码。

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