[发明专利]EGFR和/或HER2抑制剂和使用方法有效

专利信息
申请号: 201880056692.8 申请日: 2018-08-31
公开(公告)号: CN111032655B 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: J·M·哈彻;N·S·格雷;J·蒋;D·德克莱尔;P·詹尼;J·A·萨克逊;M·艾克;D·A·斯科特;A·维拉诺 申请(专利权)人: 达纳-法伯癌症研究所股份有限公司
主分类号: C07D471/04 分类号: C07D471/04;C07D487/04;A61P35/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈文平
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: egfr her2 抑制剂 使用方法
【权利要求书】:

1.一种式X化合物:

或其药学上可接受的盐,其中:

X1为CH或N;

X2为CR6或N;

X3为-NR2-C(O)-或-N=CR2-;

X4为NH、O或S;

R1为C3-C8环烷基、包括一个或两个5或6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂环基、苯基或包括一个或两个5或6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂芳基,其中所述环烷基、杂环基、苯基或杂芳基任选地被一个或多个Ra1取代;并且R2为Q-R2',其中Q为(CH2)0-3,并且R2'为C3-C8环烷基、包括一个4到7元环和1-3个选自N、O和S的杂原子的杂环基、苯基或包括一个5或6元环和1-3个选自N、O和S的杂原子的杂芳基,其中所述环烷基、杂环基、苯基或杂芳基被一个或多个Rb1取代,条件是当Q为(CH2)0、R2'为吡咯烷基并且R3为苯基或被卤素取代的苯基时,则R1不是经过取代的苯基;或者

R1为苯基或包括一个5或6元环和1-3个选自N、O和S的杂原子的杂芳基,其中所述苯基或杂芳基被一个或多个Ra2取代;并且R2为H、NH2、C1-C4烷基或C3-C6环烷基,其中所述烷基或环烷基任选地被一个或多个Rb2取代;

R3为C6-C10芳基或包括一个或两个5或6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂芳基,其中所述芳基或杂芳基任选地被一个或多个R7取代;

R4、R5和R6各自独立地为H或C1-C4烷基;

每个R7独立地为C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、OH、卤素、CN或NRn3Rn4

每个Ra1独立地为C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、OH、卤素、NH-C(O)-(C2-C4烯基)、NRn3Rn4、O-(CH2)1-4-NRn1Rn2、NRn1-(CH2)1-4-NRn1Rn2、C3-C8环烷基、包括一个或两个4到6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂环基、苯基或包括一个或两个5或6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂芳基,其中所述烷基、环烷基、杂环基、苯基或杂芳基任选地被一个或多个R11取代;

每个Rb1独立地为W、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、OH、卤素或NRn3Rn4,其中至少一个Rb1为W,或者当所述至少一个Rb1键合到包括至少一个氮原子的杂环基环中的氮原子时,Rb1为C(O)R9

每个Ra2独立地为W、NH-C(O)-(C1-C4烷基)、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、OH、卤素、NRn3Rn4、O-(CH2)0-4-NRn1Rn2、NRn1-(CH2)1-4-NRn1Rn2、C3-C8环烷基、包括一个或两个4到6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂环基、苯基或包括一个或两个5到6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂芳基,其中所述烷基、环烷基、杂环基、苯基或杂芳基任选地被一个或多个R11取代,其中至少一个Ra2为W;

每个Rb2独立地为C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、OH、卤素、NRn3Rn4或包括一个4到6元环和1或2个选自N、O和S的杂原子的杂环基;

每个R8独立地为H或C1-C4烷基;

每个R9独立地为任选地被一个或多个R10取代的C2-C4烯基;

每个R10独立地为NRn3Rn4

每个R11独立地为C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、OH、卤素、CN、NRn3Rn4、C3-C8环烷基或包括一个或两个4或6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂环基,其中所述环烷基或杂环基任选地被一个或多个C1-C6烷基、卤素或C(O)-(C2-C4烯基)取代;

每个Rn1和每个Rn2独立地为H或C1-C4烷基,或者Rn1和Rn2与其所键合的氮原子一起形成包括1到3个选自N、O和S的杂原子的4到7元杂环基环,其中所述杂环基任选地被一个或多个C1-C6烷基取代;

每个Rn3和每个Rn4独立地为H或C1-C4烷基;

W为NR8C(O)R9、C(O)R9或具有下式:

L3为键或任选地被取代的C1-C4烃链,任选地其中所述烃链的一个或多个碳单元独立地被以下替换:-C=O-、-O-、-S-、-NRL3a-、-NRL3aC(=O)-、-C(=O)NRL3a-、-SC(=O)-、-C(=O)S-、-OC(=O)-、-C(=O)O-、-NRL3aC(=S)-、-C(=S)NRL3a-、反式-CRL3b=CRL3b-、顺式-CRL3b=CRL3b-、-C≡C-、-S(=O)-、-S(=O)O-、-OS(=O)-、-S(=O)NRL3a-、-NRL3aS(=O)-、-S(=O)2-、-S(=O)2O-、-OS(=O)2-、-S(=O)2NRL3a-或-NRL3aS(=O)2-;

RL3a为H、任选地被取代的C1-C6烷基或氮保护基团;

每个RL3b独立地为H、卤素、任选地被取代的C1-C6烷基、任选地被取代的C2-C6烯基、任选地被取代的C2-C6炔基、任选地被取代的C3-C8环烷基、任选地被取代的包括一个或两个5或6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂环基、任选地被取代的C6-C10芳基或任选地被取代的包括一个或两个5或6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂芳基,或者两个RL3b基团连接以形成任选地被取代的C3-C8碳环或任选地被取代的包括1到3个选自N、O和S的杂原子的4到7元杂环基环;

L4为键或任选地被取代的C1-C6烃链;

RE1、RE2和RE3中的每一个独立地为H、卤素、任选地被取代的C1-C6烷基、任选地被取代的C2-C6烯基、任选地被取代的C2-C6炔基、任选地被取代的C3-C8环烷基、任选地被取代的包括一个或两个5或6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂环基、任选地被取代的C6-C10芳基或任选地被取代的包括一个或两个5或6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂芳基,CN、CH2OREE、CH2N(REE)2、CH2SREE、OREE、N(REE)2、Si(REE)3或SREE,或RE1和RE3、或RE2和RE3、或RE1和RE2连接以形成任选地被取代的C3-C8碳环或任选地被取代的包括1到3个选自N、O和S的杂原子的4到7元杂环基环;

每个REE独立地为H、任选地被取代的C1-C6烷基、任选地被取代的C1-C6烷氧基、任选地被取代的C2-C6烯基、任选地被取代的C2-C6炔基、任选地被取代的C3-C8环烷基、任选地被取代的包括一个或两个5或6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂环基、任选地被取代的C6-C10芳基或任选地被取代的包括一个或两个5或6元环和1-4个选自N、O和S的杂原子的杂芳基,或者两个REE基团连接以形成任选地被取代的包括1到3个选自N、O和S的杂原子的4到7元杂环基环;

RE5为卤素;

RE6为H、任选地被取代的C1-C6烷基或氮保护基团;

每个Y独立地为O、S或NRE7

RE7为H、任选地被取代的C1-C6烷基或氮保护基团;

a为1或2;并且

每个z独立地为0、1、2、3、4、5或6。

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