[发明专利]光学系统、量测装置及相关联的方法

权利要求书

1.一种用于将辐射束聚焦在量测装置中的关注区域上的光学系统，所述辐射束包括软X射线或极紫外光谱范围中的辐射，所述光学系统包括：

-第一级，用于将所述辐射束聚焦在中间聚焦区域处；以及

-第二级，用于将来自所述中间聚焦区域的所述辐射束聚焦到所述关注区域上，其中所述第二级包括Kirkpatrick-Baez反射器组合。

2.根据权利要求1所述的光学系统，其中所述第一级包括Kirkpatrick-Baez反射器组合。

3.根据权利要求1或2所述的光学系统，其中所述光学系统被配置为将所述辐射束聚焦在衬底的所述关注区域上，以便关于所述关注区域的信息能够从辐射确定，所述辐射是从所述关注区域反射、散射和衍射中的至少一个。

4.根据权利要求1、2或3所述的光学系统，其中所述第一级和所述第二级中的至少一个级包括用于在空间上分离所述辐射束的衍射光谱分量的衍射元件，并且其中可选地，所述衍射元件被提供为所述第一级和所述第二级中的至少一个级的反射器的一部分，并且可选地，其中所述衍射元件被提供为所述第一级的一部分，并且可选地，其中所述衍射元件被提供为所述第一级的第一反射器的一部分。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学系统，其中在所述中间聚焦区域与所述关注区域之间限定的主光线的路径长度小于或等于3米。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学系统，其中所述第一级和所述第二级中的至少一个级包括像差校正反射器，并且其中可选地，所述第二级的所述Kirkpatrick-Baez反射器组合中的至少一个反射器包括所述像差校正反射器。

7.根据权利要求6所述的光学系统，其中所述像差校正反射器被配置为使得在使用中，入射在所述像差校正反射器的不同部分上的所述辐射束的光线被所述第一级和所述第二级中的至少一个级聚焦成实质上无像差的焦斑。

8.根据权利要求6或7所述的光学系统，其中所述像差校正反射器的反射表面的表面轮廓具有实质上椭圆形柱体形状，并且所述表面轮廓与所述椭圆形柱体形状具有偏差，所述偏差被配置以获得实质上无像差的焦斑。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的光学系统，

其中所述反射表面的表面轮廓的一部分，可选地至少80％，关于对称平面对称，并且所述对称平面被限定在其中所述对称平面与所述表面轮廓之间的第一交叉是第一椭圆的第一部分处，

其中另外的交叉被限定在所述表面轮廓和其他平面之间限定，所述其他平面与所述对称平面平行，并且所述其他平面不与所述对称平面交叉，所述另外的交叉不完全等于任何椭圆的任何部分，

其中，随着在一端的所述其他平面与在另一端的所述对称平面之间距离的增加，所述另外的交叉逐渐从所述第一椭圆的所述第一部分发散。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的光学系统，其中所述第一级的至少一个反射器包括椭圆形柱体反射器和抛物线形柱体反射器中的至少一个反射器。

11.一种量测或检查装置，包括

-衬底台，用于接收衬底，并且将其保持在可控制位置处，

-辐射源，用于生成照射辐射束，

-根据权利要求1至11中任一项所述的光学系统，用于将所述照射辐射束聚焦在所述衬底上的关注区域处。

12.一种使用光学系统将辐射束聚焦在量测装置中的关注区域上的方法，所述辐射束包括软X射线或极紫外光谱范围中的辐射，所述方法包括：

-提供用于将所述辐射束聚焦在中间焦点处的第一级；

-提供用于将来自所述中间焦点的所述辐射束聚焦到所述关注区域上的第二级，其中所述第二级包括Kirkpatrick-Baez反射器组合；以及

-将所述辐射束聚焦在所述关注区域上。