[发明专利]用于离子植入的装置、系统及方法有效
申请号: | 201880055977.X | 申请日: | 2018-08-17 |
公开(公告)号: | CN111108580B | 公开(公告)日: | 2023-01-24 |
发明(设计)人: | 常胜武;法兰克·辛克莱;亚历山大·利坎斯奇;菲力浦·莱恩 | 申请(专利权)人: | 瓦里安半导体设备公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马爽;臧建明 |
地址: | 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 离子 植入 装置 系统 方法 | ||
1.一种用于离子植入的装置,包括:
电极系统,所述电极系统包括多个电极以将离子束从进入开孔导向到出射开孔;以及
电压电源,用以对所述电极系统施加多个电压,
其中所述电极系统包括出射电极总成,所述出射电极总成包括第一出射电极及第二出射电极,所述第二出射电极通过电极间隙与所述第一出射电极分隔开,其中所述第一出射电极及所述第二出射电极能够相对于彼此移动,以在间隙范围内改变所述电极间隙的大小,其中所述第一出射电极及所述第二出射电极保持处于接地电势。
2.根据权利要求1所述的用于离子植入的装置,进一步包括马达,所述马达机械耦合到所述出射电极总成且向所述出射电极总成供应线性运动。
3.根据权利要求1所述的用于离子植入的装置,进一步包括控制器,以响应于用户输入而供应控制信号来调整所述电极间隙。
4.根据权利要求1所述的用于离子植入的装置,其中所述第一出射电极及所述第二出射电极包括轴杆,其中所述轴杆包括轴杆中心,且其中所述轴杆能够围绕旋转轴旋转,所述旋转轴相对于所述轴杆中心移置。
5.根据权利要求1所述的用于离子植入的装置,其中所述间隙范围是至少25 mm。
6.根据权利要求1所述的用于离子植入的装置,其中所述电极间隙的最大值为98 mm,所述电极间隙的最小值为63 mm。
7.根据权利要求1所述的用于离子植入的装置,其中所述电极系统进一步包括多个减速电极,所述多个减速电极较靠近所述进入开孔而设置在所述出射电极总成的上游。
8.一种用于离子植入的系统,包括:
离子源,被安置成产生离子束;
电极系统,所述电极系统包括多个电极以将所述离子束从进入开孔导向到出射开孔;以及
电压电源,用以对所述电极系统施加多个电压,其中所述电极系统进一步包括出射电极总成,所述出射电极总成包括第一出射电极及第二出射电极,所述第二出射电极通过电极间隙与所述第一出射电极分隔开,其中所述第一出射电极及所述第二出射电极能够相对于彼此移动,以在间隙范围内改变所述电极间隙的大小,其中所述第一出射电极及所述第二出射电极保持处于接地电势。
9.根据权利要求8所述的用于离子植入的系统,进一步包括马达,所述马达机械耦合到所述出射电极总成且向所述出射电极总成供应线性运动。
10.根据权利要求8所述的用于离子植入的系统,进一步包括控制器,以响应于用户输入而供应控制信号来调整所述电极间隙。
11.根据权利要求8所述的用于离子植入的系统,其中所述第一出射电极及所述第二出射电极包括轴杆,其中所述轴杆包括轴杆中心,且其中所述轴杆能够围绕旋转轴旋转,所述旋转轴相对于所述轴杆中心移置。
12.根据权利要求8所述的用于离子植入的系统,其中所述间隙范围是至少25 mm。
13.一种用于离子植入的方法,包括:
产生离子束;
在电极系统中使所述离子束减速,其中所述离子束被引导到衬底;以及
基于所述离子束的束高度来调整所述电极系统的第一出射电极及第二出射电极之间的电极间隙,其中将所述电极间隙调整成等于所述束高度,其中所述束高度定义为所述离子束在沿着所述电极间隙的方向上的宽度。
14.根据权利要求13所述的用于离子植入的方法,其中所述第一出射电极及所述第二出射电极包括轴杆,其中所述轴杆包括轴杆中心,其中所述调整所述电极间隙包括使所述第一出射电极及所述第二出射电极中的至少一者的所述轴杆围绕旋转轴旋转,所述旋转轴相对于所述轴杆中心移置。
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