[发明专利]铝构件及其制造方法有效
申请号: | 201880054956.6 | 申请日: | 2018-08-02 |
公开(公告)号: | CN111051577B | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 关雄辅;田口喜弘 | 申请(专利权)人: | 日本轻金属株式会社 |
主分类号: | C25D11/04 | 分类号: | C25D11/04;C22C21/00;C25D11/16;C25D11/18 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 刘多益;张佳鑫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 构件 及其 制造 方法 | ||
1.一种铝构件,其包括:
由铝或铝合金形成的基材,所述铝或铝合金含有0~10质量%的镁、0.1质量%以下的铁以及0.1质量%以下的硅,并且其余量为铝和不可避免的杂质;和
形成于基材的表面上的阳极氧化膜,其中,
所述基材的所述阳极氧化膜侧的表面的算术平均高度Sa为0.1~0.5μm,最大高度Sz为0.2~5μm,并且粗糙度轮廓单元的平均宽度Rsm为0.5~10μm,其中,算术平均高度Sa、最大高度Sz和粗糙度轮廓单元的平均宽度Rsm是在去除了阳极氧化膜的情况下测定的。
2.根据权利要求1所述的铝构件,其中,
从所述阳极氧化膜侧测定的所述铝构件的L*a*b*色彩体系中的L*值为85~100,a*值为-1~+1,并且b*值为-1.5~+1.5。
3.根据权利要求2所述的铝构件,其中,
所述阳极氧化膜的表面的算术平均高度Sa为0~0.45μm,并且所述L*值为85.5~100。
4.权利要求1~3中任一项所述的铝构件的制造方法,所述方法包括:
使平均粒径为2~20μm的颗粒撞击所述基材的表面,
使用酸性溶液和碱性溶液中的至少一种对撞击了所述颗粒的基材进行蚀刻,
通过对所述基材的经过蚀刻的表面进行阳极氧化处理而形成所述阳极氧化膜,以及
通过喷砂抛光和磨轮抛光中的至少一种对所述阳极氧化膜的表面进行抛光。
5.权利要求1~3中任一项所述的铝构件的制造方法,所述方法包括:
使平均粒径为2~20μm的颗粒撞击所述基材的表面,
使用酸性溶液和碱性溶液中的至少一种对撞击了所述颗粒的基材进行蚀刻,
通过使用选自硫酸、磷酸和草酸中的至少一种水溶液对所述基材的经过蚀刻的表面进行阳极氧化处理而形成所述阳极氧化膜。
6.权利要求1~3中任一项所述的铝构件的制造方法,所述方法包括:
使平均粒径为2~20μm的颗粒撞击所述基材的表面;
使用酸性溶液和碱性溶液中的至少一种对撞击了所述颗粒的基材进行蚀刻;以及
通过对所述基材的经过蚀刻的表面进行阳极氧化处理而形成所述阳极氧化膜。
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