[发明专利]通过电容测量进行金属植入物接触检测的方法和装置

权利要求书

1.一种用于通过电容测量进行金属植入物接触检测的装置，所述装置包括：

限定壳体内部的壳体，

由所述壳体支撑的主针；

定位在所述壳体内部的电池；

装置电子器件，其由所述电池供电并与所述主针通信使得在所述主针移向或远离所述金属植入物时可进行电容测量，并在所述主针接触所述金属植入物触点时检测电容测量的突然增加；以及，

与所述电子器件通信的输出设备，其用于输出所述电容测量。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述电容测量的所述突然增加发生在不到一微秒内，并且产生多达两个皮法拉的电容。

3.根据权利要求1所述的装置，其中增加的电容测量取决于所述金属植入物的尺寸，使得所述金属植入物越大，所述电容测量的所述突然增加越大。

4.根据权利要求1所述的装置，还包括参考针，其用于对围绕所述植入物的组织进行参考电容测量，与由所述主针进行的电容测量相比，以通过将所述电容测量与所述参考电容测量进行比较来提高所述金属植入物的正向检测的准确度。

5.根据权利要求1所述的装置，其中所述壳体包括相对的第一端壁和第二端壁、底壁和相对的盖壁、限定所述壳体内部的第一横壁和相对的第二横壁。

6.根据权利要求5所述的装置，其中所述盖壁限定通向所述壳体内部的盖开口，并且所述盖壁具有限定环形垫圈凹部的环形凹壁，并且盖壁开口相对于所述环形凹壁中心地定位，并且护盖具有垫圈接合表面，并且垫圈装配在所述环形垫圈凹部中，使得所述垫圈紧靠所述护盖的垫圈接合表面，并且紧靠所述环形凹壁，使得所述垫圈固定到所述盖壁。

7.根据权利要求6所述的装置，还包括稳定器部件，其限定了稳定器开口，并且所述护盖限定盖内部，并且所述稳定器部件装配在所述盖壁开口中，并且所述主针延伸穿过所述稳定器部件，使得所述主针通过所述稳定器部件稳定，而同时所述主针能够滑过所述稳定所述器部件，并且其中所述底壁限定底壁开口，并且所述底壁开口与所述盖壁开口对准，使得所述主针能够穿过所述底壁开口延伸。

8.根据权利要求7所述的装置，其中所述盖壁限定第二盖壁开口，并且参考针稳定器部件装配在所述第二盖壁开口中，并且所述底壁限定底壁参考针开口，并且参考针护盖安装在所述盖壁上以保护所述参考针，并且所述第二盖壁开口与所述底壁参考针开口和所述参考针稳定器部件对准。

9.根据权利要求1所述的装置，其中所述装置电子器件包括充电时间测量单元和外围接口控制器，所述外围接口控制器用于在将所述主针插入皮肤和组织中时以及在所述主针接触所述金属植入物时进行电容测量。

10.根据权利要求9所述的装置，还包括电容测量软件，其中所述装置电子器件还包括控制电路，其提供对所述电容测量装置的控制，并且其中所述控制电路包括电流源和充电时间测量单元、与布线到电路电容器的多路复用器通信的模数转换器，所述电路电容器布线到开关电容器，当所述主针移向充当并联电容器的所述金属植入物时，可进行这种电容测量，并且所述电容测量软件收集电容测量并且生成电容测量输出数据，所述电容测量输出数据指示所述主针何时更接近、远离所述植入物移动以及所述主针何时接触所述植入物。

11.根据权利要求10所述的装置，其中当将所述参考针插入所述皮肤和组织中时，所述装置电子器件进行参考电容测量，并且其中通过所述装置电子器件对所述主针和参考针的电容测量进行比较，以确定所述主针是否与所述金属植入物接触，使得如果所述主针的所述电容测量与所述参考针的所述电容测量匹配，则已经发生与所述金属植入物的接触。

12.根据权利要求11所述的装置，还包括金属触点，其中一个金属触点布线到所述主针和所述装置电子器件以进行电容测量，并且另一金属触点布线到所述参考针和所述装置电子器件以进行参考针电容测量。