[发明专利]用于外延沉积工艺的注入组件

权利要求书

1.一种气体引入插件，包含：

气体分配组件，具有主体；

复数个气体注入通道，形成于所述气体分配组件内，所述复数个气体注入通道的至少一部分邻接于在所述气体分配组件中形成的盲通道；和

整流板，定界所述复数个气体注入通道和所述盲通道的一侧，所述整流板包括未穿孔部分，所述未穿孔部分在对应于所述气体分配组件中所述盲通道的位置的位置处。

2.如权利要求1所述的气体引入插件，其中所述盲通道定位于所述气体分配组件的端处。

3.如权利要求1所述的气体引入插件，其中所述盲通道包含两个盲通道，并且所述整流板在所述整流板的相对的端处包括所述未穿孔部分。

4.如权利要求1所述的气体引入插件，其中所述整流板的长度大于所述气体分配组件的气体注入部分的长度。

5.如权利要求4所述的气体引入插件，其中所述气体分配组件的所述气体注入部分的所述长度大体上等于基板的直径。

6.如权利要求1所述的气体引入插件，其中所述复数个气体注入通道的每一个通过所述整流板、外部壁和中央分隔件定界。

7.如权利要求6所述的气体引入插件，其中所述盲通道通过所述整流板、所述外部壁和所述气体分配组件的端壁定界。

8.一种用于反应腔室的气体引入插件，所述气体引入插件包含：

注入块，具有至少一个入口以将前驱物气体从至少两个气源输送至复数个气室；

气体分配组件，耦合至所述注入块；

整流板，定界所述复数个气室的一侧，所述整流板在所述整流板的相对的端上包括未穿孔部分；和

复数个气体注入通道，形成于所述气体分配组件的主体内，所述复数个气体注入通道的至少一部分邻接于在所述主体中形成的盲通道，所述盲通道对应于所述整流板的所述未穿孔部分的位置。

9.如权利要求8所述的气体引入插件，其中所述复数个气体注入通道的每一个通过所述整流板、外部壁和中央分隔件定界。

10.如权利要求9所述的气体引入插件，其中所述盲通道通过所述整流板、所述外部壁和所述气体分配组件的端壁定界。

11.如权利要求8所述的气体引入插件，其中所述整流板的长度大于所述气体分配组件的气体注入部分的长度。

12.如权利要求11所述的气体引入插件，其中所述气体分配组件的所述气体注入部分的所述长度大体上等于基板的直径。

13.如权利要求8所述的气体引入插件，其中所述盲通道定位于所述气体分配组件的端处。

14.如权利要求8所述的气体引入插件，其中所述盲通道包含两个盲通道，并且所述整流板在所述整流板的相对的端处包括所述未穿孔部分。

15.如权利要求8所述的气体引入插件，其中跨所述气体分配组件的速度以+/-0.5米/秒而改变。

16.一种气体引入插件，包含：

气体分配组件，具有主体；

复数个气体注入通道，形成于所述气体分配组件内，所述复数个气体注入通道的至少一部分邻接于在所述气体分配组件中形成的盲通道；和

整流板，定界所述复数个气体注入通道和所述盲通道的一侧，所述整流板包括穿孔部分和未穿孔部分，所述未穿孔部分在对应于所述气体分配组件中所述盲通道的位置的位置处，其中所述盲通道在所述盲通道的一端是开放的。

17.如权利要求16所述的气体引入插件，其中跨所述气体分配组件的速度以+/-0.5米/秒而改变。