[发明专利]制备(S)-4,5-二氨基-5-氧代戊酸叔丁酯的工艺在审
| 申请号: | 201880054207.3 | 申请日: | 2018-08-20 |
| 公开(公告)号: | CN111032628A | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
| 发明(设计)人: | 约翰·F·特拉弗斯;迈克尔·J·扎库托;张魏红;柯尔斯顿·法耶·约翰逊;玛丽尔·E·吉赫蒂;克里斯多佛·马顿 | 申请(专利权)人: | 细胞基因公司 |
| 主分类号: | C07D209/46 | 分类号: | C07D209/46;C07C275/70;C07C69/88;C07C237/06 |
| 代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 武晶晶 |
| 地址: | 美国新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制备 氨基 戊酸 叔丁酯 工艺 | ||
1.一种制备式(I)化合物:
或其盐、溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体的工艺,所述工艺包括:
(a)使其中R1是合适的氨基保护基团的式(II)化合物:
或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体与其中R2是氢或合适的氨基保护基团的
NH2-R2
接触,以得到式(III)化合物:
或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体;
(b)使式(III)化合物或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体转变为式(IV)化合物:
或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体;
(c)将-NH-R1基团脱保护,并且当R2是合适的氨基保护基团时,将-NH-R2基团脱保护,以得到式(I)化合物或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体;以及
(d)任选地将式(I)化合物或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体转化为所述化合物的盐。
2.一种制备式(I)化合物:
或其盐、溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体的工艺,所述工艺包括:
(c)将其中R1是合适的氨基保护基团并且R2是氢或合适的氨基保护基团的式(IV)化合物:
或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体中的-NH-R1基团脱保护,并且当R2是合适的氨基保护基团时将-NH-R2基团脱保护,以得到式(I)化合物或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体;以及
(d)任选地将式(I)化合物或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体转化为所述化合物的盐。
3.如权利要求2所述的工艺,其中式(IV)化合物或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体通过包括如下步骤的工艺制备:
(b)使式(III)化合物:
或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体转变为式(IV)化合物或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体。
4.如权利要求3所述的工艺,其中式(III)化合物或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体通过包括如下步骤的工艺制备:
(a)使式(II)化合物:
或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体与NH2-R2接触,以得到式(III)化合物或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体。
5.如权利要求1或4所述的工艺,其中式(II)化合物或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体通过包括如下步骤的工艺制备:(x)使下式的化合物:
或其溶剂合物、水合物、对映体、对映体混合物或同位素体与甲醛源接触。
6.如权利要求5所述的工艺,其中所述甲醛源是多聚甲醛或1,3,5-三噁烷。
7.如权利要求5或6所述的工艺,其中步骤(x)在酸存在下进行。
8.如权利要求7所述的工艺,其中所述酸是p-TsOH、MsOH、苯磺酸、三氟甲磺酸、三氟乙酸、硫酸或三氯乙酸。
9.如权利要求1-8中任一项所述的工艺,其中R2是氢。
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