[发明专利]曝光装置

说明书

能够进行高精度的描绘。通过读取部，对描绘了包含被排列成二维状的多个十字位置的修正用基板图案的修正用基板，在初始状态、从所述初始状态旋转了大致90度、大致180度以及大致270度的状态的每一个状态下，进行读取，并根据该读取的结果来制作对描绘信息进行修正的修正表。此外，通过读取部读取模板的十字图案，将该读取的结果与修正表进行比较，来制作与模板的变形相关的模板修正表。并且，在描绘处理中，根据修正表来修正描绘信息，并且，一边通过驱动部使掩模保持部移动，一边从光照射部向模板照射光，根据由相机摄像的图像来取得光照射部的第一方向的位置偏移以及第二方向的位置偏移，根据第一方向的位置偏移以及第二方向的位置偏移、与所述模板修正表，来修正描绘信息，并且对向光照射部输出的信号的定时进行调整。

技术领域

本发明涉及一种曝光装置。

背景技术

在专利文献1中公开了，在计测站中，测量安装于传送台的参照板上的对准标记和基板上的对准标记，来计算参照板的对准标记与基板上的对准标记的位置关系，并计算原本应该存在的位置与对准标记的检测位置的差分。此外，在专利文献1中公开了，将传送台向写入站移动，根据在写入站中计算出的差分来修正写入位置。进而，在专利文献1中公开了，测量参照板上的对准标记的位置来校正写入站。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特许第5873030号

发明内容

发明要解决的课题

在专利文献1所记载的发明中，计测站与写入站位于不同的位置，因此，必须将传送台从计测站向写入站移动，由此，位置对准的精度可能会下降。

本发明是鉴于上述状况而做出的，其目的在于，提供一种能够进行高精度的描绘的曝光装置。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题，本发明的曝光装置例如特征在于，具备：平台，在上侧形成了作为大致水平的面的第一面；掩模保持部，是被设置成能够在所述第一面沿第一方向以及与所述第一方向大致正交的第二方向而移动的俯视观察下大致长方形形状的大致板状的掩模保持部，在作为与所述第一面对置的面的相反侧的面的大致水平的第二面，载置掩模；驱动部，使所述掩模保持部在所述第一方向以及所述第二方向移动；模板，邻接于所述掩模保持部的所述第二面并邻接于与所述第一方向大致正交的第三面来设置，在上侧的面形成了大致十字形状的十字图案；光照射部，设置在所述掩模保持部的上方；相机，接收从所述光照射部照射并经过了所述模板的光；读取部，邻接于所述光照射部而设置，或者设置于所述光照射部；以及控制部，取得作为在所述掩模描绘的图案的位置以及形状所相关的信息的描绘信息，一边驱动所述驱动部而使所述掩模保持部在水平方向移动，一边根据所述描绘信息来进行从所述光照射部向所述掩模照射光的描绘处理，在所述掩模保持部载置在所述掩模描绘包含被排列成二维状的多个十字位置的修正用基板图案而得的修正用基板，所述控制部进行如下处理：通过所述读取部，在初始状态、使所述修正用基板从所述初始状态旋转大致90度、大致180度以及大致270度后的状态的每一个状态下，读取所述修正用基板，并根据该读取的结果来制作对所述描绘信息进行修正的修正表，通过所述读取部读取所述十字图案，将该读取的结果与所述修正表进行比较，来制作与所述模板的变形相关的模板修正表，并且在所述描绘处理中，根据所述修正表来修正所述描绘信息，并且，一边通过所述驱动部使所述掩模保持部移动，一边从所述光照射部向所述模板照射光，根据由所述相机摄像的图像来取得所述光照射部的所述第一方向的位置偏移以及所述第二方向的位置偏移，根据所述第一方向的位置偏移以及所述第二方向的位置偏移、与所述模板修正表，来修正所述描绘信息，并且对向所述光照射部输出的信号的定时进行调整。