[发明专利]用于井下连接的腐蚀保护元件在审
申请号: | 201880052819.9 | 申请日: | 2018-08-20 |
公开(公告)号: | CN111032995A | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 赫尔穆斯·萨米恩托克拉珀;安德烈亚斯·彼得 | 申请(专利权)人: | 通用电气(GE)贝克休斯有限责任公司 |
主分类号: | E21B41/02 | 分类号: | E21B41/02;E21B17/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马爽;臧建明 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 井下 连接 腐蚀 保护 元件 | ||
1.一种用于腐蚀性环境的系统(2),包括:
第一管状件(21,32),所述第一管状件(21,32)包括第一连接器部分(53);
第二管状件(21,32),所述第二管状件(21,32)包括第二连接器部分(55),所述第一连接器部分(53)与所述第二连接器部分(55)重叠以形成连接接合部(40);和
镁元件(48),所述镁元件(48)在所述连接接合部(40)处布置在所述第一连接器部分(53)与所述第二连接器部分(55)之间。
2.根据权利要求1所述的系统(2),其中所述第一连接器部分(53)和所述第二连接器部分(55)中的至少一者的厚度小于所述第一管状件(21,32)和所述第二管状件(21,32)中对应的一者的标称厚度。
3.根据权利要求1所述的系统(2),其中所述镁元件(48)包含按质量计不超过约10%的一种或多种合金元素。
4.根据权利要求1所述的系统(2),其中所述第一管状件(21,32)和所述第二管状件(21,32)中的至少一者包括环形凹槽(61),所述环形凹槽布置在所述第一连接器部分(53)和所述第二连接器部分(55)中对应的一者处。
5.根据权利要求4所述的系统(2),其中所述镁元件(48)被定位在所述环形凹槽(61)处。
6.根据权利要求5所述的系统(2),其中所述镁元件(48)形成密封系统(65)的一部分,所述密封系统包括布置在所述连接接合部(40)处的O型环和支撑环。
7.根据权利要求1所述的系统(2),其中所述第一连接器部分(53)包括第一多个螺纹(80),并且所述第二连接器部分(55)包括第二多个螺纹(82),所述第二多个螺纹与所述第一多个螺纹(80)接合以形成所述连接接合部(40)。
8.根据权利要求7所述的系统(2),其中所述镁元件被布置在所述连接接合部处。
9.根据权利要求8所述的系统(2),其中所述镁元件(48)被布置在所述第一多个螺纹(80)与所述第二多个螺纹(82)之间。
10.根据权利要求1所述的系统(2),其中所述第一管状件(21,32)和所述第二管状件(21,32)中的至少一者由金属材料形成。
11.一种保护连接免受腐蚀性流体影响的方法,包括:
在第一管状件(21,32)的第一连接器部分与第二管状件(21,32)的第二连接器部分之间形成连接接合部(40);
将镁元件(48)定位在所述连接接合部(40)处;
将所述镁元件(48)暴露于腐蚀性流体;以及
通过使所述镁元件(48)与所述腐蚀性流体反应,在所述连接接合部(40)处形成选定的pH区(48)。
12.根据权利要求11所述的方法,其中形成所述选定的pH区(48)包括在所述连接接合部(40)处建立pH值小于约13的选定的pH区(48)。
13.根据权利要求12所述的方法,其中在所述连接接合部(40)处建立所述选定的pH区(48)包括建立pH值介于约8与约12之间的区域。
14.根据权利要求11所述的方法,其中定位所述镁元件包括将镁箔(88)布置在所述第一连接器部分(53)与所述第二连接器部分(55)之间。
15.根据权利要求11所述的方法,其中定位所述镁元件包括将所述镁元件布置在所述第一连接器部分(53)与所述第二连接器部分(55)之间。
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