[发明专利]电容性微结构在审
申请号: | 201880049138.7 | 申请日: | 2018-06-15 |
公开(公告)号: | CN110944936A | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | H·凯特卢斯;T·瓦哈-海基拉 | 申请(专利权)人: | 芬兰国家技术研究中心股份公司 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 酆迅;傅远 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电容 微结构 | ||
1.一种微结构(100、200、300),包括:
衬底(110),具有顶表面(111);
第一电极(120),具有平行于所述衬底(110)的所述顶表面(111)的水平定向,其中所述第一电极(120)被嵌入在所述衬底(110)内,使得所述第一电极(120)的顶表面(121)与所述衬底(110)的所述顶表面(111)一致;
电介质层(140),被布置在所述第一电极(120)的所述顶表面(121)上;以及
第二电极(130),被布置在所述电介质层(140)的上方。
2.根据权利要求1所述的微结构(100、200、300),其中所述第一电极(120)的所述顶表面(121)被抛光。
3.根据权利要求1或2所述的微结构(100、200、300),其中所述第一电极(120)的厚度大于5μm。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的微结构(100、200),包括微机电系统MEMS开关,并且还包括:
结构层(131),具有梁结构,其中所述梁结构的两端均被固定到所述衬底(110),并且所述结构层(131)包括设置在所述结构层(131)的面对所述衬底(110)的表面上的所述第二电极(130)。
5.根据权利要求4所述的微结构(100、200),还包括:
下驱动电极(150),设置在所述结构层(131)的下方,以及上驱动电极(151),设置在所述结构层(131)的面对所述衬底(110)的所述表面上,其中当电势差被布置在所述上驱动电极(151)和所述下驱动电极(150)之间时,所述结构层(131)被静电引力朝向所述衬底(110)吸引,使得操作为上开关电极的所述第二电极(130)与操作为下开关电极的所述第一电极(120)发生彼此接触。
6.根据权利要求1-3中任一项所述的微结构(100、300),包括金属-绝缘体-金属MIM电容器,其中
所述第二电极(130)被布置在所述电介质层(140)的顶表面上。
7.根据权利要求6所述的微结构(100、300),其中
所述第一电极(120)的所述顶表面(121)的第一水平端被保留为未被所述电介质层(140)覆盖,并且所述电介质层(140)在所述第一电极(120)的所述顶表面(121)的第二水平端之上延伸。
8.根据权利要求7所述的微结构(100、300),其中
所述电介质层(140)的所述顶表面的第一水平端被保留为未被所述第二电极(130)覆盖,并且所述第二电极(130)延伸至所述电介质层(140)的所述顶表面的第二水平端。
9.根据权利要求8所述的微结构(100、300),还包括:
连接元件(310、311),被布置在所述衬底(110)上且被配置为提供以下各项中的至少一项:
第一连接元件(310),被配置为提供到所述第一电极(120)的所述顶表面(121)的所述第一水平端的连接;以及
第二连接元件(311),被配置为提供到所述第二电极(130)的第二水平端的连接,所述第二电极(130)的第二水平端与所述电介质层(140)所述顶表面的所述第二水平端邻近。
10.一种用于形成微结构(100、200、300)的方法,所述方法包括:
提供具有顶表面(111)的衬底(110);
形成第一电极(120),所述第一电极具有与所述衬底(110)的所述顶表面(111)平行的水平定向,其中所述第一电极(120)被嵌入在所述衬底(110)内,使得所述第一电极(120)的顶表面(121)与所述衬底(110)的所述顶表面(111)一致;
在所述第一电极(120)的所述顶表面(121)上形成电介质层(140);以及
在所述电介质层(140)上方形成第二电极(130)。
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