[发明专利]基板

权利要求书

1.一种基板，包括基础层和黑柱状间隔物，所述黑柱状间隔物形成在所述基础层上并且具有在1.1至4的范围内的光密度，所述黑柱状间隔物的顶部为半球形，

其中在所述黑柱状间隔物的底部形成渐缩部分，在所述渐缩部分中截面轨迹为曲率中心形成在截面外部的弯曲形状，以及

其中所述黑柱状间隔物的损失率为15％或更小，所述黑柱状间隔物的损失率通过将Nichiban胶带CT-24以宽度为24mm且长度为40mm的矩形附接区域附接至其上形成有所述黑柱状间隔物的所述基础层的表面上，以及然后以30mm/秒的剥离速率和180度的剥离角在纵向方向上剥离所述Nichiban胶带CT-24来测量。

2.根据权利要求1所述的基板，其中所述黑柱状间隔物包含颜料或染料。

3.根据权利要求1所述的基板，其中所述黑柱状间隔物包含金属氧化物、金属氮化物、金属氧氮化物、基于偶氮的颜料、酞菁颜料或基于碳的材料。

4.根据权利要求1所述的基板，其中所述黑柱状间隔物包含炭黑或石墨。

5.根据权利要求1所述的基板，其中所述基础层为无机基础层或有机基础层。

6.根据权利要求1所述的基板，其中在所述基础层与所述黑柱状间隔物之间还存在电极层，并且所述黑柱状间隔物与所述电极层接触。

7.根据权利要求1所述的基板，其中半球形部分的截面轨迹的最大曲率为2000mm^-1或更小。

8.根据权利要求7所述的基板，其中所述半球形部分的所述截面轨迹不包括曲率为0mm^-1的轨迹。

9.根据权利要求1所述的基板，其中半球形部分具有在1μm至20μm的范围内的高度和在2μm至40μm的范围内的宽度。

10.根据权利要求1所述的基板，还包括附接至其上形成有所述黑柱状间隔物的所述基础层的表面的保护压敏粘合膜。

11.一种用于生产基板的方法，所述基板包括黑柱状间隔物，所述黑柱状间隔物形成在基础层上并且具有在1.1至4的范围内的光密度，所述黑柱状间隔物的顶部为半球形，

所述方法包括在通过包括遮光层的压印掩模压制可光固化材料的状态下使所述可光固化材料固化的步骤，所述可光固化材料形成在所述基础层上形成的所述黑柱状间隔物，

其中所述包括遮光层的压印掩模具有在透光主体的一个表面上形成凹半球形，以及在所述主体的其上未形成所述半球形的表面上形成遮光膜的形式，以及

在其上形成有所述凹半球形的表面与所述可光固化材料紧密接触的状态下使所述可光固化材料固化。

12.根据权利要求11所述的用于生产基板的方法，其中在所述基础层上形成电极层以及在所述电极层上形成所述可光固化材料。

13.一种光学装置，包括根据权利要求1所述的基板和第二基板，所述第二基板与所述基板相对设置并且通过所述基板中的所述黑柱状间隔物保持与所述基板的间隙。

14.根据权利要求13所述的光学装置，其中在所述基板与所述第二基板之间的所述间隙中存在液晶材料。