[发明专利]用于光学带中的精确跟踪的伺服图案有效

专利信息
申请号: 201880048456.1 申请日: 2018-07-31
公开(公告)号: CN110959175B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: C·詹森 申请(专利权)人: 甲骨文国际公司
主分类号: G11B7/24009 分类号: G11B7/24009;G11B7/003;G11B7/09
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 周衡威
地址: 美国加*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 光学 中的 精确 跟踪 伺服 图案
【权利要求书】:

1.一种光学带,包括:

基底层,包括:

第一平行物理凹槽集合,跨过所述光学带的宽度在第一方向上倾斜;以及

第二平行物理凹槽集合,跨过所述光学带的宽度在与所述第一方向不同的第二方向上倾斜;

可重写记录层,所述可重写记录层处于以下至少一种情况:所述可重写记录层形成在所述基底层上方,以及所述可重写记录层形成在所述基底层下方;以及

反射层,在与所述第一平行物理凹槽集合和所述第二平行物理凹槽集合重叠的部分中被屏蔽;

其中,所述可重写记录层中的数据轨道以第一角度与所述第一平行物理凹槽集合相交,并且所述数据轨道以第二角度与所述第二平行物理凹槽集合相交。

2.如权利要求1所述的光学带,其中,所述第一平行物理凹槽集合的子集与所述第二平行物理凹槽集合的子集沿着所述光学带的长度交替。

3.如权利要求2所述的光学带,其中,由所述第二平行物理凹槽集合的一个子集分隔的所述第一平行物理凹槽集合的两个子集在所述光学带中形成伺服帧。

4.如权利要求3所述的光学带,其中,所述第一平行物理凹槽集合的所述两个子集之间的固定间隔被用于确定所述光学带的速度。

5.如权利要求3所述的光学带,其中,所述第一平行物理凹槽集合的一个子集上的横向位置处的第一点与所述第二平行物理凹槽集合的一个子集上的所述横向位置处的第二点之间的距离被用于确定所述横向位置处的数据轨道。

6.如权利要求2所述的光学带,其中,所述第一平行物理凹槽集合和所述第二平行物理凹槽集合的每个子集包括多个等间距平行物理凹槽。

7.如权利要求1所述的光学带,其中,所述第一平行物理凹槽集合和所述第二平行物理凹槽集合中的每个凹槽具有1微米的宽度。

8.如权利要求1所述的光学带,其中,所述记录层包括一系列平行数据轨道,其中所述一系列平行数据轨道中的相邻数据轨道不被所述第一平行物理凹槽集合和所述第二平行物理凹槽集合分隔。

9.如权利要求8所述的光学带,其中,所述一系列平行数据轨道沿着所述光学带的长度延伸。

10.如权利要求1所述的光学带,其中,所述可重写记录层包括在结晶状态和非结晶状态之间转换的相变材料。

11.一种光学带,包括:

基底层,包括:

第一平行物理凹槽集合,跨过所述光学带的宽度在第一方向上倾斜;以及

第二平行物理凹槽集合,跨过所述光学带的宽度在与所述第一方向不同的第二方向上倾斜,

其中,所述第一平行物理凹槽集合和所述第二平行物理凹槽集合的每个子集包括多个等间距平行物理凹槽,并且

其中,所述等间距平行物理凹槽由与所述等间距平行物理凹槽中的每个凹槽的宽度相等的间距分隔;以及

可重写记录层,所述可重写记录层处于以下至少一种情况:所述可重写记录层形成在所述基底层上方,以及所述可重写记录层形成在所述基底层下方,

其中,所述可重写记录层中的数据轨道以第一角度与所述第一平行物理凹槽集合相交,并且所述数据轨道以第二角度与所述第二平行物理凹槽集合相交。

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