[发明专利]体腔中的流动调节

权利要求书

1.一种用于更改通过体腔的流体流动的可植入装置，所述体腔耦合到分支内腔，所述可植入装置包括：

被配置为被植入所述体腔内的流动调节器，所述流动调节器包括上游部件，所述上游部件通过间隙与下游部件隔开，所述上游部件具有入口、出口和从所述入口向所述出口会聚的横截面流动面积，所述下游部件具有进口、离口和从所述进口向所述离口发散的横截面流动面积，所述上游部件的所述出口与所述下游部件的所述进口之间的距离小于15mm，其中所述间隙限定与所述分支内腔连通的路径，

其中所述流动调节器被配置为使经过所述上游部件朝向所述下游部件的流体流加速，以在所述间隙附近生成低压区域，并随着所述流体流进入所述下游部件的所述进口中，将附加流体夹带到所述流体流中，和

其中所述上游部件的所述出口处的所述横截面流动面积小于所述下游部件的所述进口处的所述横截面流动面积。

2.根据权利要求1所述的可植入装置，其中所述上游部件的所述出口定位在所述分支内腔首先与所述体腔相交的位置的下游。

3.根据权利要求1所述的可植入装置，其中所述间隙开始于所述分支内腔首先与所述体腔相交的位置的下游。

4.根据权利要求1所述的可植入装置，其中所述上游部件和所述下游部件与所述体腔的流动轴线共享公共的共线流动轴线。

5.根据权利要求1所述的可植入装置，其中所述上游部件的所述出口定位在所述下游部件的所述进口的下游。

6.根据权利要求1所述的可植入装置，其中所述上游部件经由限定所述间隙的流体流动结构与所述下游部件耦合，

其中所述上游部件、所述下游部件和所述流体流动结构由单个框架形成。

7.根据权利要求6所述的可植入装置，其中所述流体流动结构从所述上游部件和所述下游部件向外延伸，使得所述流体流动结构接触所述体腔的内壁。

8.根据权利要求6所述的可植入装置，其中所述流体流动结构与所述上游部件或下游部件中的至少一个之间的接合处具有S形曲线形状。

9.根据权利要求1所述的可植入装置，其中所述下游部件的长度大于所述上游部件的长度。

10.根据权利要求1所述的可植入装置，其中所述上游部件的平均会聚角大于所述下游部件的平均发散角。

11.根据权利要求1所述的可植入装置，其中所述上游部件包括喷嘴，所述喷嘴使经过所述上游部件的所述流体流加速，并且所述下游部件包括扩散器，所述扩散器使经过所述下游部件的具有夹带的附加流体的所述流体流减速。

12.一种用于更改通过体腔的流体流动的可植入装置，所述体腔耦合到分支内腔，所述可植入装置包括：

被配置为被植入所述体腔内的流动调节器，所述流动调节器包括上游部件，所述上游部件通过间隙与下游部件隔开，所述上游部件具有入口、出口和从所述入口向所述出口会聚的横截面流动面积，所述下游部件具有进口、离口和从所述进口向所述离口发散的横截面流动面积，所述出口处的所述横截面流动面积小于所述进口处的所述横截面流动面积，其中所述间隙限定与所述分支内腔连通的路径，

其中所述流动调节器被配置为使经过所述上游部件向所述下游部件的流体流加速，以在所述间隙附近生成低压区域，并且随着所述流体流进入所述下游部件的所述进口中，将附加流体夹带到所述流体流中。

13.根据权利要求12所述的可植入装置，所述上游部件的所述出口定位在所述分支内腔首先与所述体腔相交的位置的下游。

14.根据权利要求12所述的可植入装置，其中所述间隙开始于所述分支内腔首先与所述体腔相交的位置的下游。