[发明专利]基片输送装置和基片输送方法

权利要求书

1.一种基片输送装置，其特征在于，包括：

保持在正面形成有图案的基片的保持部；和

将非活性气体供给到所述基片的所述正面的供给部，其中所述非活性气体使保持于所述保持部的所述基片的所述正面局部地成为低氧状态。

2.如权利要求1所述的基片输送装置，其特征在于：

还包括收纳部，其收纳所述保持部、所述供给部、保持于所述保持部的所述基片，并形成有用于将所述基片输送到内部的输送口。

3.如权利要求2所述的基片输送装置，其特征在于：

所述收纳部还具有开闭所述输送口的开闭件。

4.如权利要求2或3所述的基片输送装置，其特征在于：

所述供给部向所述输送口释放所述非活性气体。

5.如权利要求2～4中任一项所述的基片输送装置，其特征在于：

还包括测量所述收纳部内的氧量的测量计，

所述供给部基于从所述测量计获得的所述收纳部内的氧量，来控制所述非活性气体的供给量。

6.如权利要求2～5中任一项所述的基片输送装置，其特征在于：

所述供给部使在所述收纳部收纳所述基片来将其输送的情况下的所述非活性气体的供给量比在所述收纳部没有收纳所述基片的情况下的所述非活性气体的供给量多。

7.如权利要求2～6中任一项所述的基片输送装置，其特征在于：

还包括使所述保持部和所述供给部在规定的方向移动的移动装置，

所述移动装置使所述输送口朝向与所述基片的行进方向不同的方向而输送所述基片。

8.如权利要求1～7中任一项所述的基片输送装置，其特征在于：

所述供给部向所述基片的整个所述正面以喷淋状供给所述非活性气体。

9.如权利要求1～7中任一项所述的基片输送装置，其特征在于：

所述供给部以所述非活性气体沿所述基片的所述正面流动的方式供给所述非活性气体。

10.一种基片输送方法，其特征在于，包括：

保持在正面形成有图案的基片的保持步骤；

将非活性气体供给到所述基片的所述正面的供给步骤，其中所述非活性气体使所保持的所述基片的所述正面局部地成为低氧状态；和

一边将所述非活性气体供给到所述正面一边输送所述基片的输送步骤。

11.如权利要求10所述的基片输送方法，其特征在于：

在所述输送步骤中，使形成在收纳所述基片的收纳部的输送口朝向与所述基片的行进方向不同的方向。

12.如权利要求10或11所述的基片输送方法，其特征在于：

在所述供给步骤中，基于分别输送的多个所述基片各自的输送时间，来控制所述非活性气体的供给量，以使输送时的多个所述基片的氧化程度一致。