[发明专利]表面硬化处理装置和表面硬化处理方法有效
申请号: | 201880044779.3 | 申请日: | 2018-07-06 |
公开(公告)号: | CN110914467B | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 平冈泰;渡边阳一 | 申请(专利权)人: | 帕卡热处理工业株式会社 |
主分类号: | C23C8/26 | 分类号: | C23C8/26;C21D1/06 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 崔立宇;褚瑶杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 硬化 处理 装置 方法 | ||
1.一种表面硬化处理装置,其中,作为在处理炉内产生氢的气体,将包括(1)仅氨气、(2)仅氨分解气体、或(3)仅氨气和氨分解气体这两种的两种以上的炉内导入气体导入所述处理炉内,进行气体氮化处理或气体软氮化处理作为配置于所述处理炉内的被处理品的表面硬化处理,该表面硬化处理装置的特征在于,
其具备:
炉内气氛气体浓度检测装置,检测出所述处理炉内的氢浓度或氨浓度;
炉内氮化势运算装置,基于由所述炉内气氛气体浓度检测装置检测出的氢浓度或氨浓度,运算出所述处理炉内的氮化势;和
气体导入量控制装置,根据由所述炉内氮化势运算装置运算出的所述处理炉内的氮化势和目标氮化势,一边将所述两种以上的炉内导入气体的总导入量保持恒定,一边改变所述两种以上的炉内导入气体的流量比例,由此分别地控制所述两种以上的炉内导入气体的导入量,以使所述处理炉内的氮化势接近所述目标氮化势,
所述目标氮化势设定成对于同一被处理品来说根据时间段而不同,并且在同一时间段内设定为固定值,
所述气体导入量控制装置实施PID控制,其中,将所述两种以上的炉内导入气体各自的导入量作为输入值,将由所述炉内氮化势运算装置运算出的所述处理炉内的氮化势作为输出值,将所述目标氮化势作为目标值,
关于所述PID控制中的比例增益、积分增益或积分时间、与微分增益或微分时间,可以从实施导频处理预先获得的候补值中针对所述目标氮化势的每个不同值进行设定。
2.如权利要求1所述的表面硬化处理装置,其特征在于,所述目标氮化势根据各时间段在0.05~1.3的范围内进行设定。
3.如权利要求1或2所述的表面硬化处理装置,其特征在于,所述目标氮化势对于同一被处理品根据3个以上的时间段而设定为3个以上的不同的值。
4.一种表面硬化处理方法,其中,作为在处理炉内产生氢的气体,将包括(1)仅氨气、(2)仅氨分解气体、或(3)仅氨气和氨分解气体这两种的两种以上的炉内导入气体导入所述处理炉内,进行气体氮化处理或气体软氮化处理作为配置于所述处理炉内的被处理品的表面硬化处理,该表面硬化处理方法的特征在于,
其具备:
炉内气氛气体浓度检测工序,检测出所述处理炉内的氢浓度或氨浓度;
炉内氮化势运算工序,基于由所述炉内气氛气体浓度检测工序检测出的氢浓度或氨浓度,运算出所述处理炉内的氮化势;和
气体导入量控制工序,根据由所述炉内氮化势运算工序运算出的所述处理炉内的氮化势和目标氮化势,一边将所述两种以上的炉内导入气体的总导入量保持恒定,一边改变所述两种以上的炉内导入气体的流量比例,由此分别地控制所述两种以上的炉内导入气体的导入量,以使所述处理炉内的氮化势接近所述目标氮化势,
所述目标氮化势设定成对于同一被处理品来说根据时间段而不同,并且在同一时间段内设定为固定值,
在所述气体导入量控制工序中实施PID控制,其中,将所述两种以上的炉内导入气体各自的导入量作为输入值,将由所述炉内氮化势运算工序运算出的所述处理炉内的氮化势作为输出值,将所述目标氮化势作为目标值,
关于所述PID控制中的比例增益、积分增益或积分时间、与微分增益或微分时间,可以从实施导频处理预先获得的候补值中针对所述目标氮化势的每个不同值进行设定。
5.如权利要求4所述的表面硬化处理方法,其特征在于,所述目标氮化势根据各时间段在0.05~1.3的范围内进行设定。
6.如权利要求4或5所述的表面硬化处理方法,其特征在于,所述目标氮化势对于同一被处理品根据3个以上的时间段而设定为3个以上的不同的值。
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