[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201880042506.5 | 申请日： | 2018-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN110800379B | 公开（公告）日： | 2022-01-18 |
| 发明（设计）人： | 竹田敦;森脇崇行;井上忠;田名部正治;关谷一成;笹本浩;佐藤辰宪;土屋信昭 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;C23C14/34;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：
巴伦，包括第一不平衡端子、第二不平衡端子、第一平衡端子和第二平衡端子；
被接地的真空容器；
第一电极，被电连接至所述第一平衡端子；
第二电极，被电连接至所述第二平衡端子；以及
接地电极，被布置在所述真空容器中并被接地，
所述接地电极包括被布置成彼此平行的多个板部，所述多个板部被布置为使得所述接地电极在截面中具有梳齿形状。
2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，
经由阻抗匹配电路向所述第一不平衡端子供给高频，所述第二不平衡端子被接地，
所述巴伦包括被配置为连接所述第一不平衡端子与所述第一平衡端子的第一线圈以及被配置为连接所述第二不平衡端子与所述第二平衡端子的第二线圈。
3.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：
巴伦，包括第一不平衡端子、第二不平衡端子、第一平衡端子和第二平衡端子；
被接地的真空容器；
第一电极，被电连接至所述第一平衡端子；
第二电极，被电连接至所述第二平衡端子；以及
接地电极，被布置在所述真空容器中并被接地，
所述接地电极在一个截面中具有梳齿形状。
4.如权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于，
经由阻抗匹配电路向所述第一不平衡端子供给高频，所述第二不平衡端子被接地，
所述巴伦包括被配置为连接所述第一不平衡端子与所述第一平衡端子的第一线圈以及被配置为连接所述第二不平衡端子与所述第二平衡端子的第二线圈。
5.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第一电极包括被配置为保持第一构件的第一保持面，所述第二电极包括被配置为保持第二构件的第二保持面，并且所述第一保持面和所述第二保持面属于一个平面。
6.如权利要求5所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述接地电极被布置成与所述一个平面交叉。
7.如权利要求6所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述接地电极包括被布置在所述第一构件和所述第二构件之间的部分。
8.如权利要求5所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第一保持面经由所述第一构件与所述真空容器的内部空间相对，并且所述第二保持面经由所述第二构件与所述真空容器的所述内部空间相对。
9.如权利要求5所述的等离子体处理装置，其特征在于，还包括：
第二巴伦，包括第三不平衡端子、第四不平衡端子、第三平衡端子和第四平衡端子；
第三电极，被电连接至所述第三平衡端子；以及
第四电极，被电连接至所述第四平衡端子，
其中所述第四电极被布置在所述第三电极的周围，以及
所述第三电极和所述第四电极被布置为与所述一个平面相对。
10.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第一平衡端子和所述第一电极经由阻塞电容器电连接。
11.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第二平衡端子和所述第二电极经由阻塞电容器电连接。
12.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第一平衡端子和所述第一电极经由阻塞电容器电连接，并且所述第二平衡端子和所述第二电极经由阻塞电容器电连接。
13.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述第一电极和所述第二电极经由绝缘体通过所述真空容器来支撑。
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