[发明专利]用于在衬底上沉积装饰用镍涂层的镍电镀浴

权利要求书

1.一种用于在待处理衬底上沉积装饰用镍涂层的镍电镀浴，其特征在于所述电镀浴包含至少一种镍离子源、至少一种氨基酸和/或至少一种不为氨基酸的羧酸；其中所述氨基酸的总浓度在1到10g/l的范围内，其中不为氨基酸的羧酸的总浓度在10到40g/l的范围内；其中所述电镀浴不含硼酸；其中所述镍离子的总浓度在55到80g/l的范围内；且其中所述镍电镀浴具有7.5到40g/l范围内的氯含量。

2.根据权利要求1所述的镍电镀浴，其特征在于所述至少一种氨基酸是选自由以下组成的群组：β丙氨酸、甘氨酸、谷氨酸、DL-天冬氨酸、苏氨酸、缬氨酸、谷氨酰胺或L-丝氨酸。

3.根据权利要求1或2所述的镍电镀浴，其特征在于所述至少一种不为氨基酸的羧酸是选自由以下组成的群组：单羧酸、二羧酸或三羧酸。

4.根据权利要求3所述的镍电镀浴，其特征在于所述至少一种不为氨基酸的羧酸是选自由以下组成的群组：酒石酸、乙醇酸、苹果酸、乙酸、乳酸、柠檬酸、琥珀酸、丙酸、甲酸或戊二酸。

5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的镍电镀浴，其特征在于所述电镀浴包含至少两种不同羧酸，此二者均不为氨基酸；其中所述两种不同羧酸的总浓度在10到40g/l的范围内。

6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的镍电镀浴，其特征在于所述电镀浴包含至少一种氨基酸和一种不为氨基酸的羧酸；其中所述氨基酸的总浓度在1到10g/l的范围内，其中不为氨基酸的所述羧酸的总浓度在10到40g/l的范围内。

7.根据前述权利要求中任一权利要求所述的镍电镀浴，其特征在于所述镍离子的总浓度在60到75g/l、优选62到72g/l的范围内。

8.根据前述权利要求中任一权利要求所述的镍电镀浴，其特征在于所述电镀浴的pH值在2到6、优选3到5、更优选3.5到4.7的范围内。

9.一种用于在待处理衬底上沉积装饰用镍涂层的方法，其包含以下方法步骤：

i)使所述待处理衬底与根据权利要求1到8中任一权利要求所述的镍电镀浴接触；

ii)使至少一个阳极与所述镍电镀浴接触；

iii)向所述待处理衬底和所述至少一个阳极施加电压；和

iv)在所述待处理衬底上电沉积装饰用镍涂层。

10.根据权利要求9所述的用于沉积装饰用镍涂层的方法，其特征在于所述沉积方法是在30℃到70℃、优选40℃到65℃且更优选50℃到60℃范围内的工作温度下执行。

11.根据权利要求9或10所述的用于沉积装饰用镍涂层的方法，其特征在于所述沉积方法是在1到7安培/dm2 ASD、优选1.5到6ASD且更优选2到5ASD范围内的工作电流密度下执行。

12.根据权利要求9到11中任一权利要求所述的用于沉积装饰用镍涂层的方法，其特征在于所述沉积方法中的用于施加所述电压并随后电沉积所述装饰用镍涂层(方法步骤iii)和iv))的工作时间是在5到50分钟、优选6到35分钟且更优选8到25分钟的范围内。

13.根据权利要求9到12中任一权利要求所述的用于沉积装饰用镍涂层的方法，其特征在于所述电镀浴进一步包含至少一种糖精和/或呈糖精盐形式的糖精衍生物、优选糖精的钠盐，其浓度在1到10g/l、优选1.5到7g/l、更优选2到6g/l的范围内；和至少一种磺酸和/或呈磺酸盐形式的磺酸衍生物，优选选自由以下组成的群组：烯丙基磺酸、乙烯基磺酸、烯丙基磺酸的钠盐、乙烯基磺酸的钠盐或其混合物，其总浓度在0.1到5g/l、优选0.25到3.5g/l、更优选0.5到2.0g/l的范围内。