[发明专利]红外线处理装置在审
申请号: | 201880041852.1 | 申请日: | 2018-07-03 |
公开(公告)号: | CN110799264A | 公开(公告)日: | 2020-02-14 |
发明(设计)人: | 青木道郎 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社 |
主分类号: | B01J19/12 | 分类号: | B01J19/12;B01J19/00;H05B3/10;H05B3/44 |
代理公司: | 11432 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 王轶;郑雪娜 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 内管 红外线加热器 超材料结构 峰值波长 发热体 红外线 波峰 外管 红外线处理装置 包围 处理对象物 氟化钙 氟系 物流 辐射 流通 | ||
1.一种红外线处理装置,其中,
所述红外线处理装置具备:
红外线加热器,该红外线加热器具备发热体和超材料结构体,当从所述发热体输入有热能时,该超材料结构体能够辐射出具有非普朗克分布的最大波峰、且该最大波峰的峰值波长为2μm以上7μm以下的红外线;
内管,该内管含有具有C-F键的氟系材料和氟化钙中的至少任一种、且将所述红外线加热器包围,所述峰值波长的红外线从该内管透过;以及
外管,该外管将所述内管包围、且在与所述内管之间形成使得处理对象物能够流通的对象物流路。
2.根据权利要求1所述的红外线处理装置,其中,
所述具有C-F键的氟系材料为氟树脂。
3.根据权利要求1或2所述的红外线处理装置,其中,
所述红外线处理装置具备反射体,从所述发热体观察,该反射体配设为比所述外管更靠外侧、且对所述峰值波长的红外线进行反射,
所述峰值波长的红外线从所述外管透过。
4.根据权利要求3所述的红外线处理装置,其中,
所述反射体配设于所述外管的外周面。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的红外线处理装置,其中,
所述外管的内周面的至少一部分成为对所述峰值波长的红外线进行反射的反射面,或者,在该内周面的至少一部分具有对所述峰值波长的红外线进行反射的反射体。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的红外线处理装置,其中,
能够对所述内管的配置有所述发热体的内部空间进行减压。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的红外线处理装置,其中,
所述红外线处理装置具备透过管,该透过管含有具有C-F键的氟系材料和氟化钙中的至少任一种,配设于所述外管的内侧、且将所述内管包围,所述峰值波长的红外线从该透过管透过,
所述对象物流路形成于所述透过管与所述外管之间,
在所述内管与所述透过管之间形成有使得制冷剂能够流通的制冷剂流路。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的红外线处理装置,其中,
所述最大波峰的所述峰值波长超过3.5μm且为7μm以下。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的红外线处理装置,其中,
所述超材料结构体从所述发热体侧开始按顺序依次具备:第一导体层;电介质层,该电介质层与所述第一导体层接合;以及第二导体层,该第二导体层具有分别与所述电介质层接合、且以彼此分离的方式周期性地配置的多个单独导体层。
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