[发明专利]制造或再生方法有效

专利信息
申请号: 201880040405.4 申请日: 2018-03-20
公开(公告)号: CN110770657B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 横井淳一 申请(专利权)人: 兄弟工业株式会社
主分类号: G03G21/16 分类号: G03G21/16
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 刘煜
地址: 日本国爱知县名*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 制造 再生 方法
【权利要求书】:

1.一种制造或再生方法,是用于图像形成装置的具有存储介质和保持架的组装体的制造或再生方法,

所述存储介质具有电接触面,

所述保持架对所述电接触面进行保持,且具有:

第一外表面,该第一外表面位于所述保持架的第一方向上的一方,且在该第一外表面保持有所述电接触面,所述第一方向是与所述电接触面交叉的方向;

第二外表面,该第二外表面位于所述保持架的所述第一方向上的另一方,且位于在所述第一方向上与所述第一外表面分离的位置;以及

弹性部件,该弹性部件位于所述第一外表面与所述第二外表面之间,并能够在所述第一方向上伸缩,

所述第一外表面与所述第二外表面之间的所述第一方向上的距离能够与所述弹性部件的伸缩相应地在第一距离和比所述第一距离短的第二距离之间变化,

所述制造或再生方法的特征在于,包括如下工序:

通过使所述弹性部件在所述第一方向上收缩而使所述第一外表面与所述第二外表面之间的所述第一方向上的距离缩短成比所述第一距离短的规定距离的工序;

将所述第一外表面与所述第二外表面之间的所述第一方向上的距离维持为所述规定距离的工序;以及

在所述第一外表面与所述第二外表面之间的所述第一方向上的距离维持为所述规定距离的状态下,使探针与所述电接触面接触,从而对所述存储介质进行信息的写入、擦除及更新中的至少一个的工序。

2.根据权利要求1所述的制造或再生方法,其特征在于,

所述规定距离为所述第二距离。

3.根据权利要求1所述的制造或再生方法,其特征在于,

所述规定距离比所述第一距离短且比所述第二距离长。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的制造或再生方法,其特征在于,

还包括在所述第一外表面固定所述电接触面的工序,

在将所述电接触面固定于所述第一外表面之后,使所述弹性部件收缩,从而使所述第一外表面与所述第二外表面之间的所述第一方向上的距离缩短成比所述第一距离短的规定距离。

5.根据权利要求1~3中任一项所述的制造或再生方法,其特征在于,

所述保持架能够安装于壳体,该壳体能够收容显影剂,

在所述保持架安装于所述壳体的状态下,对所述存储介质进行信息的写入、更新及擦除中的至少一个。

6.根据权利要求5所述的制造或再生方法,其特征在于,

还包括在对所述存储介质进行信息的写入、更新及擦除中的至少一个之前,将所述保持架安装于所述壳体的工序。

7.根据权利要求5所述的制造或再生方法,其特征在于,

显影辊位于所述壳体的第二方向上的端部,

所述保持架相对于所述壳体能够在所述第二方向上移动,

在将所述保持架在所述第二方向上相对于所述壳体的位置固定了的状态下,使探针与所述电接触面接触,从而对所述存储介质进行信息的写入、擦除及更新中的至少一个。

8.根据权利要求1~3中任一项所述的制造或再生方法,其特征在于,

所述保持架能够安装于壳体,该壳体能够收容显影剂,

在所述保持架未安装于所述壳体的状态下,对所述存储介质进行信息的写入、更新及擦除中的至少一个。

9.根据权利要求8所述的制造或再生方法,其特征在于,

还包括在所述保持架未安装于所述壳体的状态下,对所述存储介质进行了信息的写入、更新及擦除中的至少一个之后,将所述保持架安装于所述壳体的工序。

10.根据权利要求1~3中任一项所述的制造或再生方法,其特征在于,

通过夹具在所述第一方向上按压所述第一外表面及所述第二外表面中的至少一方,从而使所述弹性部件在所述第一方向上收缩。

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